教程565(1.0) b2}QoJ@` m]-v IUpb 1.模拟任务 K+h9bI/Sf
qSpa4W[ 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 LRCS)UBY(. 设计包括两个步骤: uJIRk$ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 zCGmn& *M - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 wQdW
lon 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 U2[3S\@ 0'V- siss_1J 照明光束参数 NDIc?kj~
*&hXJJ[+
+/@ZnE9s
波长:632.8nm /8$1[[[
激光光束直径(1/e2):700um F)E7(Un`8 I*vj26qvg 理想输出场参数 <D;H}ef
_ntW}})K
*xv/b=
直径:1° 9?}rpA`P
分辨率:≤0.03° *0&i'0>
效率:>70% #)PGQ)(
杂散光:<20% /SqFP
L]
+}(B856+ 2W"cTm
2.设计相位函数 q*RaX
4V \6`%NhkM_ DETajf/<F
j6R{
相位的设计请参考会话编辑器 St7D.|
Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 H%NLL4&wu
设计没有离散相位级的phase-only传输。 ZB^4 (F')H
wWOT*R_ 3.计算GRIN扩散器 ]:E! i^C`Z GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 #hE3~+i 最大折射率调制为△n=+0.05。 QzFv ; 最大层厚度如下: g]iy-,e :WfB!4%! 4.计算折射率调制 kXZV%mnT7 ZTBFV/{ 从IFTA优化文档中显示优化的传输 Z'EO ,[ J'!NC1 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 >h!.Gj wh7a| "PX3%II 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 C(t6;&H }_kI> aD/,c1
乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 MY<!\4/
dT,m{[+ -{:LxE 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 cdtzf:#q Wse*gO 4|Gs(^nU
G|G?h
数据阵列可用于存储折射率调制。 P!6 e
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 ETWmeMN
插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 L%s4snE
,md7.z]U~
5.X/Y采样介质 v$Y1+Ep9 In9|n^=H@
norc!?L GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 _F|_C5A 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Ye=7Y57Nr 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 d$pf[DJQo 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 _~S^#ut+ "MS`d+rf\ hIO4%RQj_
*6x^w%=A
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 FiU;>t<)
折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ^Lv^W
应该选择像素化折射率调制。 4FHX#`
s8_NN
)Q
优化的GRIN介质是周期性结构。 @~U6=(+
只优化和指定一个单周期。 WWs[]zr
介质必须切换到周期模式。周期是 I'%H:53^0
1.20764μm×1.20764μm。 >RqT7n8h 2hA66ar{$ 6.通过GRIN介质传播 fJ"~XTN}T NF\^'W@N H"RF[bX(
xEZVsz
通过折射率调制层传播的传播模型: b;;Kxi:7$}
- 薄元近似 k-DB~-L
- 分步光束传播方法。 {6y.%ysU
对于这个案例,薄元近似足够准确。 yJ`1},^
在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 RdVis|7o
场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 dj&m
^`r|3c0 7.模拟结果 *Qwhi&k 8YLZ)k' 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
,bwopRcA
8.结论 "`gZy)E
)%@WoBRj VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 b%jG?HSu 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 >iWf7-: 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 % m5 ^p +?txGHQq
/R$x-7t)^( QQ:2987619807 %TTL^@1!b