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教程565(1.0) fin15k 8%4`Yj= 1.模拟任务 aI<~+ ] s*IfXv 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 cNVdGY%& 设计包括两个步骤: *t_&im%E - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 H07j& - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 %Z7!9+< 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ~g{,W u!i5Q &0g,Xkr 照明光束参数 r>Ln*R,9D
)>fi={!=c Y8PT`7gd` 波长:632.8nm Y[!a82MTzn 激光光束直径(1/e2):700um >=V+X"\Z - -G1H 理想输出场参数 p{rS -`I p[b\x_0%c Q-F9oZ*0 直径:1° ,:`6x[ + 分辨率:≤0.03° 1 XG-O 效率:>70% {9Y'v 杂散光:<20% U]|q4!WE 'm|m+K83 :~(im_r 2.设计相位函数 +2SX4Kxu =lwS\mNs .N=hA f[IchCwX 相位的设计请参考会话编辑器 +]-KzDsr"V Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 M2}<gRL*}J 设计没有离散相位级的phase-only传输。 RY{tX` qN@a<row&~ 3.计算GRIN扩散器 rg,63r GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 qedGBl& 最大折射率调制为△n=+0.05。 [R4x[36Zp 最大层厚度如下: H#inr^Xa yjd'{B9{ 4.计算折射率调制 Q$1K{14I \#aVu^`eX 从IFTA优化文档中显示优化的传输 tWnm{mF W[Bu&?h$ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 oui!fTy u7?juI#Cl G+uiZ(p> 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 86#mmm) ZRB 0OH P0xLx 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 %v[Kk-d \w^QHX1+ iwQ-(GjM[A 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 AiZFvn[n8 Nb~dw;t Z~c'h N}fUBX4k 数据阵列可用于存储折射率调制。 ,SF.@^o@a 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 v9U(sEDq 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 m>ycN SFk#bh 5.X/Y采样介质 yvCR = C hFMst%:y$ 7[g;|(G0 GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 SDHc[66' 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 9T2A)a]0 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 xn@0pL3B~ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 z,FTsR$x 6 1W/BU7O KC:4 l&*)r;9 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 TE%#$q 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 RX5.bVp
eE 应该选择像素化折射率调制。 i 1I>RK H'{?aaK|t k0_$M{@Y 优化的GRIN介质是周期性结构。 XcMJD(! 只优化和指定一个单周期。 9xn23*Fo 介质必须切换到周期模式。周期是 BD7@Mj*| 1.20764μm×1.20764μm。 _]xt65TL 4iNbK~5j 6.通过GRIN介质传播 &4Con%YU[ 3;MjO*- rA1r#ksQ $[iT~B$ 通过折射率调制层传播的传播模型: ny(GTKoUz - 薄元近似 g'ZMV6b?K - 分步光束传播方法。 @f{_=~+ 对于这个案例,薄元近似足够准确。 ;Q=GJ5`B 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 b/B`&CIA0" 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 [OZ=iz. u'i%~(:$\) 7.模拟结果 i*CQor6|z 6lmiMU& |