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摘要 *j=%
# =a!=2VN9y VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 ysN3 $]1=\I G3]4A&h9v~ 0(Ij%Wi, 介质目录中的斜光栅介质 eyaNs{TV w!CNRtM:~ GILfbNcd 4Hg9N} 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 e!`i3KYn" 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 C~[,z.FvO d-m7}2c 斜光栅介质的编辑对话框 @x1-!
~z# c,22*.V/ +p^u^a V :eD]zq5 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 -di o5a 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 YqG7h,F 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 <VcQ{F 斜光栅介质的编辑对话框 d _
e WcI iE{&*.q_}> 2:R+tn(F E4!Fupkpf 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 Al'3? 以下参数可用: M2|is ~ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) /(T?j!nPE - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) u>$t' - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) JRFtsio* - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) =xrv~ K^$=dLp 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 z~Q)/d,Ac OB7hlW 斜光栅介质的编辑对话框 fnY.ao1-s[ BHw, 4#F1; eQ"E SaCh
7 ^ 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 aT<q=DO 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 >+waX"e k8Xm n6X 斜光栅介质的编辑对话框 HThcn1u~^b 7KPwQ?SjT -hV*EPQ/ .ByuN ca}2TT&t 首先,必须选择涂层材料。 .-=vx r 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 xpI wrJO 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 .o8t+X'G +3`alHUK 斜光栅的编辑对话框 zVD:#d%b nie% eC&U ExM,g' 7 PX99uWx5] `kr?j:g 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 uocGbi:V'; 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 H1T.(M/" nd(S3rct& 堆栈使用的评论 e*!kZAf o.\oA6P_ h1{3njdr fQ98(+6 H:G1BZjq 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Jl<2>@ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 iCyfOh 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 Ewm9\qmg 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 zT[!o
j7 >Se,;cB'/] 斜光栅介质的采样配置 <1%$Vq `-&K~^-cH 斜光栅介质采样 (ik\|y% A 8V(pugJ Jo}eeJ;k 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 x`?3C"N:< 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 @P"p+ 在右边,显示了介质的预览。 L+QLLcS~EM 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 p:%loDk kW (Bkuc) pNIf=lA yEoV[K8k 采样斜光栅#1 \;-|-8Q :ivf/xn tl].r|yl Z8oK2Dw 采样斜光栅#2 ]_f<kW\1* +MLVbK HmwT~ m`_ONm'T& 采样斜光栅#3 UDni]P!E *,m; ERt{H3eCcJ E!#WnSpnK 采样斜光栅#4 PT9*)9<L HKr
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6@]Dm qv"$Bd:]r 文档信息 f9\X>zzB2| h@h! ,; Yuc> fFA (~en ( TU7'J QQ:2987619807 X|8c>_}
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