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摘要 :.fm LL /:aY)0F0<& VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 q!8aYw+c 32,Y3!% 0\yA6`}! V5HK6- T 介质目录中的斜光栅介质 ,CQg6-[ kG3m1: : =E-V-?N\ :0j_I\L 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 7,Q>>%/0P 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 xEqr3( #qdfr3 斜光栅介质的编辑对话框 lH1gWe IkJ-*vI6 {3*Zx"e![ I=9sTR) 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 QNgfvy 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 di]TS9&9 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 UrEfFtH' 斜光栅介质的编辑对话框 y^hCO:`l3 #Q61c 5Z*6,P0 c^EU&q{4 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 phqmr5s^H 以下参数可用: ppK`7J>Z - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) #>dj!33 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) O
p,_d^ - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) ZA6)@Mn - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) *t,1(Gw|7q 4
oZm0
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 >K-S&Y 6k*,Yei 斜光栅介质的编辑对话框 x3Ze\N8w d\v1R-V #8qhl zM2_z 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 |kh7F0';" 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 6_kv~`"t Z g!DJW 斜光栅介质的编辑对话框 M A b]k9c1x nb_$g@ 03 g=]VQ;{ <3C/t|s 首先,必须选择涂层材料。 =WM^i86 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 CWw#0 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 H[D<G9: yttaZhK^u 斜光栅的编辑对话框 85Red~-M jWqjGX` kqQT^6S 6,a:s:$>}R
aK33bn'j 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 z^^)n 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 Z]qbLxJV G[$g-NU+ 堆栈使用的评论 u.dYDi pq$-s7# }ej>uZVe< |Q+:vb: }WDzzjDR+ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 !8*lU2 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 _=-B%m 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 p(Ux]_s% 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 85?;\5%- (5a:O (\r 斜光栅介质的采样配置 Lv
UQ&NmY _9:r4|S 斜光栅介质采样 h5<eU;Rw+ RG_.0'5=hc .C,D;T{ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 :T )R;E@ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 W`v$-o- 在右边,显示了介质的预览。 03H0(ku= 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ^:~!@$*;6 e2qSU[ +h08uo5c a'Yi^;2+\ 采样斜光栅#1 L@s_)?x0 S`8Iu[Ma Kv9Z.DY 0p]v#z} 采样斜光栅#2 z3I
|jy1 %X|u({(zb _Wqy,L;J v=d16 采样斜光栅#3 )M><09 gCq'#G\Z D$N;Qb =;"=o5g_ 采样斜光栅#4 C),i#v Z C<+BKS YS:p(jtd F3[,6%4v 文档信息 k(he<-GF\ 9y&bKB2, A `{hKS )2a)$qx; $*|M+ofQ QQ:2987619807 RqX^$C8M
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