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摘要 T+:GYab/ ph3dm\U. VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 A8ClkLC;I g&/r =U
)-i (%;,*e #* 8^ar< 介质目录中的斜光栅介质 HzZX=c jtwe9
NRs%q}lX JNI&]3[C>? 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 kvt^s0T8Q 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 vtq47i ,!98VJmr 斜光栅介质的编辑对话框 \'B%lXh %'9&JsO >6'brb pQ`S%]k.< 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 zKf0 :X 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 (V`ddP- 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 OuB[[L 斜光栅介质的编辑对话框 ]/Cu,mX sw,p6T[
.Txwp?}; GJBMaT 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 _!o0bYD 以下参数可用: bFfDaO<k - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) |3gWH4M4** - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) s~I#K[[5 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) x'
3kHw - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 3e|,Z'4}4 :(4];Va 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 eGI&4JgJ. NOtwgZ- 斜光栅介质的编辑对话框 sP%J`L@h f'u[G?C
q94*2@KV ,u 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 I!~3xZ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 B_0]$D0
^ S{~j5tQv^q 斜光栅介质的编辑对话框 inyS 4tb u6/;=]0
Aoy=gK L$; gf_L R-\"^BV#Z 首先,必须选择涂层材料。 P1"g62R 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 w%kaM= 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 ^I!gteU; u6P U(f 斜光栅的编辑对话框 o6S`7uwJ*/ Cta!"=\
C]
|m|` l4q7,%G T!Uf
PfEI 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 CdiL{zH\3 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 ~VJP:Y{[ SSr2K 堆栈使用的评论 $+HS^m
58/\
A
Zv| |8p Nv\<>gA: H=5#cPI#(^ 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 \MtdT[* 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 b'4r5@GO 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 avH3{V 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 q^b_'We_9 .t{?doOT 斜光栅介质的采样配置 SwmX_F#_ aB4L$M8x 斜光栅介质采样 c]:@y"W5$ 3hNb
? (OHd} YQ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 g?!;04 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 JT 5+d , 在右边,显示了介质的预览。 p2o66t 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 JPS<e*5 vX}mwK8
lV2MRxI |c!lZo/ 采样斜光栅#1 &bS!>_9 eR5+1b
&E8fd/s=k y1hJVYE2 采样斜光栅#2 2v\-xg%1 *wfkjG
?C9>bKo*2H c9;oB|8| 采样斜光栅#3 ]ch=D >.#tNFAs j~rarR@NB) >eaK@u-'0 采样斜光栅#4 <2RxyoDL6 U*em)/9 rzgzX YiPp#0T[Gx 文档信息 p=J9N-EM )ur&Mnmm
sOW,hpNW 6u v'{ &,@wLy^T QQ:2987619807 )Z2t=&Nw
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