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摘要 $tKATL* ?7p|
F^ VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 m{5$4v,[ <&Uk!1Jd % b&BLXW s*X\%!l9 介质目录中的斜光栅介质 [O)Zof 2Ee1mbZVw8 $P@cS1sB xq)/ QR 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 PmY:sJ{M 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 hpyre B 0EB'! 斜光栅介质的编辑对话框 stG&(M 8WGM%n#q ^0
lPv!2 iLgt_@g 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 8JrGZ8Q4RM 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 I7_D $a= 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Mfr#IzNHN 斜光栅介质的编辑对话框 //,'oh~W MB 5[Js| _Xv/S_yW zLqp@\sT 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 79x9<,a) 以下参数可用: t5APD?5 c - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) 11T\2&Q - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) @(?4g-*E - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) pdHb - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) bx^EaXj(r T!A}ipqb 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 p4EItRZS g DG m32 斜光栅介质的编辑对话框 L#
1vf =eoxT <3x#(ms!! FxX3Pq8h 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 }gi'%e 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 \KXEw2S E|;5Z* 斜光栅介质的编辑对话框 ^ks^9*'|j an`(?6d 1n(}Q1fa #jx?uS DOIWhd5: 首先,必须选择涂层材料。 Lp)8SmN 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 y;Ln ao7i 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 XL=R]IC<. ;Hb[gvl 斜光栅的编辑对话框 U3K<@r L)'rM-nkFh mVAm ^JK 3a}`xCO5 3F} KrG 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 z
2VCK@0 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 "4hpU]4j m
Ap|?n/K 堆栈使用的评论 /j/%wT2m WbWW=(N'd o'C.,ic?C $2C GRhC z8 ;#H
tr 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 G?d,$NMo| 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 e@-Mlq) 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 G1_@!
4 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 )9*3^v %N>NOk) 斜光栅介质的采样配置 PZ(<eJ> _xgVuJ 斜光栅介质采样 PbHh?iH fP1OH&Ar a`~eC)T 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 ^r_lj$:+$ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 z12But\< 在右边,显示了介质的预览。 xqC<p`?4 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 )c >B23D ~)a;59<$ n=o'ocdS) y2$;t' 采样斜光栅#1 `s>=Sn&UP Gb |}Su J-\?,4mcP #"8[8jyV 采样斜光栅#2 UnWGMo?JEi }`N2ZxC0AQ 6 _5d H'GYJ ?U" 采样斜光栅#3 l5Wa'~0qA :sVHY2x `$sY^EX 7Jx-W| 采样斜光栅#4 #H6g&)Z_ Fv);5LD %L13Jsw CTkN8{2S 文档信息 !ObE{2Enf i`KZ, +e8>?dkq d[]p_oIQq fEw=I7{Y QQ:2987619807 ^[,s_34V
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