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摘要
1b@]^Ue ;U? 323Z VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 (T.j3@Ko '1Ex{$Yk Seq
^o= oF s)UR 介质目录中的斜光栅介质 =vL
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]hbrzvo >Hd!o"I 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 3X9 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 u\f QaQV {k']nI.> 斜光栅介质的编辑对话框 !z5Ozm+} ?VyiR40-Cx i~m;Ah,# ~le:4qaX 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 %KR2Vlh0 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 }50s\H._C 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 Z_Y gV:jc 斜光栅介质的编辑对话框 IkQ,#Bsb[ RuOse9 [`1@`5SL- rW*[sLl3 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 E/ ^N
以下参数可用: 3.Jk-:u %m - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ]'0}fuV - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) c(s: f@ 1 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) Hr*xA x - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) #eKH'fE 7_L$ XIa 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 :\%ZTBLL Po\d! 斜光栅介质的编辑对话框 kXOc) pzT`.#N:M m=60a@o] ?JR?PW8 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 jN/snU2\0 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 {gB9EGY $NBQv6#: 斜光栅介质的编辑对话框 /Nhc|x6zQ ]ts^h~BZ$ mJsU7bD` nd{k
D>a AH^ud*3F 首先,必须选择涂层材料。 Tzfk_h3hE 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 8`Tj *7Y= 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 $]4o!Z LKg9{0Y: 斜光栅的编辑对话框 %Lp#2?* X*`b}^T Q'aVdJN, tQ)l4Y 8 )IKqO:@ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 it->)?"(6 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 E4<#6q /&5:v%L 堆栈使用的评论 p@wtT"Y A9z3SJ\vXl xj JoWB Kn}Y7B{ WP PDvB 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Pxgal4{6 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 s 4n<k]d 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 0bjZwC4J 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 )2R]KU_=g hPt=j{aJ%< 斜光栅介质的采样配置 @Suww@< 5?TX.h9B4 斜光栅介质采样 +B4 i,]lCx `8;\}6:"1 H:o=gP60] 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 7+rroCr" 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 U \jFB*U 在右边,显示了介质的预览。 3H%bbFy 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 W&2r{kCsQ 3
op{h6 5w</Ga 1z@{4) 采样斜光栅#1 kM3#[#6$! >FL%H=] cY.5z:7u~v KnUVR!H| 采样斜光栅#2 |43Oc:Ah+ qrcir-+ aQ0pYk~( *Q;?p
hr 采样斜光栅#3 =an0PN v+'*.Iv: KR>o 2 P5v;o9B& 采样斜光栅#4 =lx~tSiS o RK:{?Y Zl?9ibm;@ V/yj.aA*@ 文档信息 jH37{S- igF<].'V +_ny{i`' ^t,haO4 dyl1~'K^ QQ:2987619807 f\H1$q\p\
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