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摘要 {-s7_\|p( tEllkHyef 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ~Yl%{1 Yd<q4VJR 200Fd8Ju 建模任务 :UDe\zcd" Mj:=$}rs^ m# I 结果 A<cnIUW o&rNM5: ~)!vhdBe 结果 5~xv"S(E} E XQ3(:& FdmoR; 结果 Vxim$'x! *iujJi ]a\HgFp@ 文件信息 Y_M3-H=0 | PzXN+DW Gu
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QQ:2987619807
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