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摘要 fCx~K' UWn gl2~6"dc 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 ^R>&^"oI dH#o11[ s8.oS);` 建模任务 >]ZojdOl) i"Ct}7i >'Y] C\ 结果 vJl4.nk e)cmZ8~S _4[kg)#+ 结果 DFE?H MbYa6jrF Vu~mi%UH 结果 M={k4r_t pg4M$;ED >jN)9}3>-# 文件信息 D'uzH|z8 h=d&@k\g (Pvch!
QQ:2987619807
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