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摘要 H
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T N xe6_RO% 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 IjDT'p_ &6t3SZV q^N0abzgP 建模任务 -N7xO) |#&V:GZp M[K0t>ih 结果 ]`@]<6 '>e79f-O) ^V: "zzn& 结果 '8l yj&
Sn(l$wk= R#/?AD& 结果 c3V]'~ Cfr<D3&,] 9si}WqAw 文件信息 \oB' X7H'Uk9: 8Z
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