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摘要 G\ex^&M (:n|v% 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 N&m_e)E5c +>}o;`hPe n}OU Y 建模任务 n}q$f|4! zN")elBi 9@'4P 结果 TF2KZL#A| i/*,N&^ ISBF\ wQY 结果 9`Vc >f@ G>H)+ ]2$x|#Gg} 结果 `{o$F ::( Sc_5FX\Yx `tVy_/3(9 文件信息 QNpuTZn#Q ;_N5>3C: n[CoS
QQ:2987619807
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