Zemax光学设计从入门到精通	光学系统设计：理论、仿真与系统检测	Zemax光学设计实践基础(陈家璧)	ZEMAX光学系统设计实战
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	光学设计与光学元件	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	计算光学带来的成像革命

发帖回复

1726阅读
0回复

[转载]高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析 [复制链接]

上一主题下一主题

离线飞跃小河

技术员

发帖: 171

光币: 88

光券: 0

只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2020-06-09

1. 摘要

高NA物镜广泛用于光刻，显微等技术。因此，聚焦仿真中考虑光的矢量性质至关重要。VirtualLab可以非常便捷地对此类镜头进行光线追迹和场追迹分析。通过场追迹，可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究，进而加深对矢量效应的理解。

2. 建模任务 !8tqYY?>@\
~I]aUN

3. 概述

 示例系统包含了高数值孔径物镜
 下一步，我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。

4. 光线追迹仿真

 首先，选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
 点击“Go!”。
 随即获得3D光线追迹结果

 然后，选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
 点击“Go!”。
 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。

5. 场追迹仿真

 转换到场追迹，并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
 点击“Go!”。

6. 场追迹结果(相机探测器)

 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
 下图所示为通过叠加Ex，Ey和Ez分量得到的强度分布：由于在高NA条件下相对较大Ez分量，导致聚焦光斑明显的失对称性。

7. 场追迹结果(电磁场探测器)
 利用电磁场探测器，我们可以获得多有电磁场分量的结果

8. 文件信息

更多信息

Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination

Q Q :1824712522

分享到

发帖回复

返回列表


	http://www.opticsky.cn 访问内容超出本站范围，不能确定是否安全


	关闭您还没有登录，快捷通道只有在登录后才能使用。立即登录还没有帐号？赶紧注册一个


	关闭选中1篇全选

帖子

[转载]高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析 [复制链接]