三星新EUV光刻技术生产线开始量产
据外媒报道,三星韩国的新的尖端半导体生产线已开始批量生产,主要是三星第一条致力于极紫外(EUV)光刻技术的半导体V1生产线,将会使用7纳米(nm)以下的工艺生产芯片。
这条生产线目前正在生产采用7和6纳米工艺技术的最先进的移动芯片,并将继续采用对电路进行打磨,直到3纳米工艺制程。随着V1生产线的投入使用,三星现在在韩国和美国共有6条生产线。 根据,到2020年底,V1生产线的累计总投资将达到60亿美元,预计7纳米及以下工艺节点的总产能将比2019年翻三番。 关键词: EUV光刻
分享到:
|