【官方培训】2019年 Zemax成像与编程培训_11月上海站
Zemax成像设计培训课程 & 编程培训课程 Zemax中国将于 2019 年 11 月在上海举办官方培训课程,现已正式启动报名,欢迎广大新老客户报名参加! 主办:Zemax China 时间:成像设计:2019年11月18~20日 | OpticStudio 编程:2019年11月21~22日 地点:上海 课程安排: 成像设计 本课程为3 天的 OpticStudio 成像设计课程,课程主要覆盖序列成像设计、优化技巧、像质评价、热分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 图谱、玻璃材料定义、坐标变换等,及相应的实例镜头、棱镜建模等。
本课程为 2 天的 OpticStudio 编程课程,涉及 ZPL 宏编程、Visual Studio (C#)及 MATLAB 编程并对 Python 编程进行简要介绍。本课程旨在使 OpticStudio 用户通过使用以上几种编程语言来实现对 OpticStudio 功能的扩展。课程内容涵盖:内建 Zemax 编程语言 ZPL 宏的使用, 通过外部编程软件( MATLAB, Visual Studio 等) 与 OpticStudio 建立通信,编写新的自定义序列表面、自定义非序列物体及光源。
特色: Ÿ 互动式案例教学,理论实例相结合,指导实际软件操作练习; |