[求助]机台清机前后分光偏移过大 [复制链接]

机台清机后7层AR膜朝短波偏移50个纳米，机台是成都四盛的1350，晶控镀膜，温度280，3.0-3镀膜，涉谷的电子枪，清机周期为一个班10天，各位大神帮忙分析一下什么原因，谢谢啦

你好，我觉得你可以尝试变更一下保养频率，机台大清机的时候晶控口子是否有清理，如果每次大清机才清洁晶控的话你这个现象应该比较常见，晶控口子周围因为镀膜时间长以后会沉积膜层，累积的膜层越厚就会挡更多的膜料，当你清洁以后，上去的膜料会变多，从而导致蒸镀到镜片的膜料反而更少，看你发的曲线，清机以后波长变短了，也就是实际蒸镀到镜片的膜料变少了，那么曲线波长变短是正常的···· XtH_+W+O  
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希望能帮到你

最近也是遇到这种情况，我们这边是更换了H4磨料导致的波长偏短，换回原来的磨料就好了。

保养前后的镀膜时真空度差异大不大？短移了一般是镀膜真空高了，实际镀膜厚度少了。

清机周期太长了

很多機臺清過之後都會有不同程度的往短波漂移，也就是找出機臺的規律，問題是不是每次都這樣 }6{)Jv  

是否是修正板升起的高度有变化了？

正常保养前后20NM偏移，你这个有些多了，多弄几次找准规律就行了。

10天清一次机台没有对比性啊！

学习了，的确有此现象，但原因不明！