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    [求助]MgF2预融速率过大会不会产生膜料点子的情况？产生膜料点子和脏点子情况有哪些呢？ [复制链接]

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    离线misery_
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2019-09-16
    MgF2预融速率过大会不会产生膜料点子的情况？产生膜料点子和脏点子情况有哪些呢？玻璃膜料点子多，这种情况如何解决的？
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2019-09-17
    降低挡板的高度，MGF2不预融，用电子枪蒸镀，点子也还可以啊。
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    离线ouyuu
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    只看该作者 2楼 发表于: 2019-09-18
    点子原因非常多，可以说真空室内任何一个机构都有可能形成点子。
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    离线士官长
    实习生
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    只看该作者 3楼 发表于: 2019-09-28
    预熔时候如果不开挡板应该不会导致点子，开挡板时的速率是最好和设定速率差不多。
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    离线ouyuu
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    只看该作者 4楼 发表于: 2019-09-30
    刚才回复他人帖子时候想到一个可能性。 ^rz_f{c]-  
    予熔设定的电流过低或者过高，导致开挡板瞬间电子枪调整剧烈的话，也会有喷溅产生。
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    离线wflney
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-12-29
    赞同四楼的说法
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    离线xiezhizhi
    技术员
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-02-01
    设备用了多久了 1x^GWtRp  
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    离线morningtech
    助理工程师
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    只看该作者 7楼 发表于: 2020-02-01
    版主说的有道理。束流急剧变化，确实易产生点子。 >dT*rH3w  
    预熔；大光斑，低束流，功率慢变（调小P值），调小最大功率。 u:EiwRW  
    膜林晶控仪的最大功率延迟，出发点就是防止开挡板后的束流剧变，对防喷溅有点点帮助。
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