Zemax OpticStudio 19.4 现已发布！ {?}^H W9{ y7Hoy.( 在OpticStudio 19.4 中，ZPL编程界面新增了关键词搜索
功能，ZOS-API中现已支持提取颜色
探测器、
材料库以及几何
图像分析等分析数据，进一步扩展了OpticStudio编程的灵活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件导入工具，全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的数据导入。此外在新版本中进一步扩展了格点矢高
优化 (Grid Optimization) 工具的实用性。
Fg i;% 8 9maN 全新授权管理器 '*G8;91u OpticStudio 19.4 推出全新授权管理器，极大地改进了授权的激活、转移、管理和故障排除等相关进程。全新授权管理器具有便捷的选项卡，将根据您所需要进行的操作，直接提供给您相关性最高的
信息。您可以点击合适的列标题排列您的授权，例如按授权
序列号、服务期日期或产品类型进行排列。当按照产品类型排列授权时，用户可以简单地选择是否与某一OpticStudio或LensMechanix授权进行交互。与此同时，故障排除选项卡可快速将用户链接至恰当的资源内，极大地加速了授权问题解决的操作。
`2M*?.vk +Ur75YPh 
c ? Mbyay ]na$n[T/I ZPL宏编辑器内搜索功能 mPo.Z"uy7 如今，您可以通过ZPL宏编辑器内的文本搜寻按钮，便捷地进行ZPL脚本语句搜索。在加速您对较长的宏
文件编写和编辑的同时，方便了您对拼写错误的查找。
e0]%ko" {WTy/$ Qk 
M'pIAm1p P<LmCY m 通过ZOS-API查看非序列光线追迹中的能量损耗 59X X mVg 如今，可利用ZOS-API获取非序列光线追迹中由于追迹错误和阈值造成的总能量损耗信息。这些信息如同下图界面中所显示的一致：
vm =d?*cR tLP
Er@ 
*y |zF6 y&wo"'; 更多OS 19.4版本的信息，请访问
OpticStudio 19.4 版本说明。
