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    [求助]镀完膜后发雾 [复制链接]

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    离线liuwenbo1991
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-10-17
    基材：SI片  膜料：GE+ZNS  镀膜波段近紫外到14um，电子枪蒸发镀膜，Mark II+离子源。镀完膜后SI片发雾，通过调节镀膜工艺（包括镀膜温度，材料沉积速率，离子源参数等等后依然发雾，哪位大咖有遇到过这种问题，帮忙解惑，谢谢
     
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    离线rexchou
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    只看该作者 1楼 发表于: 2018-10-19
    之前遇過發霧情況,是離子源被汙染到. 8!zb F<W9  
    請參考~
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    离线ouyuu
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    只看该作者 2楼 发表于: 2018-10-20
    我觉得可能是MARKii离子源能量不够造成的。 64U6C*w+  
    MARK II离子源的特性是电流很大，电压不高。 ?QpNjsF  
    离子束的密度（电流）够了，但是离子速度（电压）不够的话， (oaYF+T  
    结晶大小还是没法改变。 3t(c_:[%  
    ^o d<JD4  
    楼主的设备加热能到350度以上吗？
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    离线yangpaopao
    助理工程师
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    只看该作者 3楼 发表于: 2018-10-23
    SI片不知道，熔石英镜片出过同样的问题，硅片加工完到你镀膜前肯定被污染过，或者酒精等擦过
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    离线dede
    助理工程师
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    只看该作者 4楼 发表于: 2019-10-14
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    离线jakzhou
    技术员
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-11-17
    镀膜温度过高，氧化钛高温下结晶发雾！
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    离线王少伟
    实习生
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-03-05
    真空度不够
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