摘要：深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法，为实现更小的元件特征尺寸，必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率，由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文的讨论由此展开：介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计，以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系；物镜中最关键的元件为浸液元件，对浸液薄膜的液体环境适应性及疏水、防污染等关键问题进行了讨论；激光辐照寿命是衡量浸没式光刻系统性能的重要因素，对镀膜元件的激光辐照性能，尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。 [6_.Y*} N
关键词 ： 浸没式光刻, 光学薄膜, 膜系设计, 环境适应性, 激光辐照寿命
