第 三 章 约 定 和 定 义 ^]6M["d/p
/}Yqf`CZy
介绍 Vvyj
这一章对本手册的习惯用法和术语进行说明。ZEMAX使用的大部分习惯用法和术语与光学行业都是一致的,但是还是有一些重要的不同点。 f')c/Yw
*(G&B\
活动结构 q +R*Hi
活动结构是指当前在镜头数据编辑器中显示的结构。详见“多重结构”这一章。 4U?<vby
^ Hg/P8q
角放大率 7R,qDp S
像空间近轴主光线与物空间近轴主光线角度之比,角度的测量是以近轴入瞳和出瞳的位置为基准。 F.<L>
G7{1
f ba&`
切迹 &|b4\uj9
切迹指系统入瞳处照明的均匀性。默认情况下,入瞳处是照明均匀的。然而,有时入瞳需要不均匀的照明。为此,ZEMAX支持入瞳切迹,也就是入瞳振幅的变化。 I5qM.@%zB
有三种类型的切迹:均匀分布,高斯型分布和切线分布。对每一种分布(均匀分布除外),切迹因素取决于入瞳处的振幅变化率。在“系统菜单”这一章中有关于切迹类型和因子的讨论。 bhD ~4Rz
ZEMAX也支持用户定义切迹类型。这可以用于任意表面。表面的切迹不同于入瞳切迹,因为表面不需要放置在入瞳处。对于表面切迹的更多信息,请参看“表面类型”这一章的“用户定义表面”这节。 ;WD,x:>blO
?6f7ld5
后焦距
:Hk_8J
ZEMAX对后焦距的定义是沿着Z轴的方向从最后一个玻璃面计算到与无限远物体共轭的近轴像面的距离。如果没有玻璃面,后焦距就是从第一面到无限远物体共轭的近轴像面的距离。 DzC Df@TB"
C/G]v*MBQ
基面 :&qhJtGo
基面(又称叫基点)指一些特殊的共轭位置,这些位置对应的物像平面具有特定的放大率。基面包括主面,对应的物像面垂轴放大率为+1;负主面,垂轴放大率为-1;节平面,对应于角放大率为+1;负节平面,角放大率为-1;焦平面,象空间焦平面放大率为0,物空间焦平面放大率为无穷大。 o)&"Rf
除焦平面外,所有的基面都对应一对共轭面。比如,像空间主面与物空间主面相共轭,等等。如果透镜系统物空间和像空间介质的折射率相同,那么节面与主面重合。 llq*T"7
ZEMAX列出了从象平面到不同象方位置的距离,同时也列出了从第一面到不同物方平面的距离。 @4drjT
BFWi(58q
主光线 wiJRCH
如果没有渐晕,也没有像差,主光线指以一定视场角入射的一束光线中,通过入瞳中央射到象平面的那一条。注意,没有渐晕和像差时,任何穿过入瞳中央的光线也一定会通过光阑和出瞳的中心。 Vr/Bu4V"
如果使用了渐晕系数,主光线被认为是通过有渐晕入瞳中心的光线,这意味着主光线不一定穿过光阑的中央。 ^gOww6$ <
如果有瞳面像差(这是客观存在的),主光线可能会通过近轴入瞳中心(如果没有使用光线瞄准)或光阑中央(如果使用光线瞄准),但一般说来,不会同时通过二者中心。 (WRMaI72(
如果渐晕系数使入瞳减小,主光线会通过渐晕入瞳中心(如果不使用光线瞄准)或者渐晕光阑中心(如果使用光线瞄准)。 qZ*f%L(
常用的是主光线通过渐晕入瞳的中心,基本光线通过无渐晕的光阑中心。ZEMAX不使用基本光线。大部分计算都是以主光线或者中心光线作为参考。优先使用中心光线,因为它是基于所有照射到象面的光线聚合效应,而不是基于选择某一条特殊光线。 YLOwQj'
R)oB!$k
坐标轴(系) nO{ x^b <
光轴为Z轴,正方向为光线由物方开始传播的方向。反射镜可以使传播方向反转。坐标系采用右手坐标。在标准系统图中,弧矢面内的X轴指向显示器以里。子午面内的Y轴垂直向上。 B>z?ClH$R
通常传播方向沿着Z轴正方向从左至右。当有奇数个反射镜时,光束的物理传播沿-Z方向。因此,经过奇数反射镜之后,所有的厚度是负值。 ]78!!G[`
/[K_
&