第 三 章 约 定 和 定 义 <xpph
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介绍 p{A}pnjf
这一章对本手册的习惯用法和术语进行说明。ZEMAX使用的大部分习惯用法和术语与光学行业都是一致的,但是还是有一些重要的不同点。 ,_.I\EY[
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活动结构 g#]" hn
活动结构是指当前在镜头数据编辑器中显示的结构。详见“多重结构”这一章。 N?Q+>
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角放大率 Kb#4ILA
像空间近轴主光线与物空间近轴主光线角度之比,角度的测量是以近轴入瞳和出瞳的位置为基准。 !LMN[3M_
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切迹 q%n6K
切迹指系统入瞳处照明的均匀性。默认情况下,入瞳处是照明均匀的。然而,有时入瞳需要不均匀的照明。为此,ZEMAX支持入瞳切迹,也就是入瞳振幅的变化。 VZr>U*J[:
有三种类型的切迹:均匀分布,高斯型分布和切线分布。对每一种分布(均匀分布除外),切迹因素取决于入瞳处的振幅变化率。在“系统菜单”这一章中有关于切迹类型和因子的讨论。 H<hVTc{K
ZEMAX也支持用户定义切迹类型。这可以用于任意表面。表面的切迹不同于入瞳切迹,因为表面不需要放置在入瞳处。对于表面切迹的更多信息,请参看“表面类型”这一章的“用户定义表面”这节。 !%+2Yifna
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后焦距 8I20*#
ZEMAX对后焦距的定义是沿着Z轴的方向从最后一个玻璃面计算到与无限远物体共轭的近轴像面的距离。如果没有玻璃面,后焦距就是从第一面到无限远物体共轭的近轴像面的距离。 P9Yy9_a|x
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基面 e1(Q(3
基面(又称叫基点)指一些特殊的共轭位置,这些位置对应的物像平面具有特定的放大率。基面包括主面,对应的物像面垂轴放大率为+1;负主面,垂轴放大率为-1;节平面,对应于角放大率为+1;负节平面,角放大率为-1;焦平面,象空间焦平面放大率为0,物空间焦平面放大率为无穷大。 NL=|z=q
除焦平面外,所有的基面都对应一对共轭面。比如,像空间主面与物空间主面相共轭,等等。如果透镜系统物空间和像空间介质的折射率相同,那么节面与主面重合。 zLs|tJOVp
ZEMAX列出了从象平面到不同象方位置的距离,同时也列出了从第一面到不同物方平面的距离。 +CH},@j
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主光线 EF7+ *Q9
如果没有渐晕,也没有像差,主光线指以一定视场角入射的一束光线中,通过入瞳中央射到象平面的那一条。注意,没有渐晕和像差时,任何穿过入瞳中央的光线也一定会通过光阑和出瞳的中心。 [v7^i_d
如果使用了渐晕系数,主光线被认为是通过有渐晕入瞳中心的光线,这意味着主光线不一定穿过光阑的中央。 TNCgaTJ{h
如果有瞳面像差(这是客观存在的),主光线可能会通过近轴入瞳中心(如果没有使用光线瞄准)或光阑中央(如果使用光线瞄准),但一般说来,不会同时通过二者中心。 =!O*/6rz
如果渐晕系数使入瞳减小,主光线会通过渐晕入瞳中心(如果不使用光线瞄准)或者渐晕光阑中心(如果使用光线瞄准)。 Q)m4_+,d
常用的是主光线通过渐晕入瞳的中心,基本光线通过无渐晕的光阑中心。ZEMAX不使用基本光线。大部分计算都是以主光线或者中心光线作为参考。优先使用中心光线,因为它是基于所有照射到象面的光线聚合效应,而不是基于选择某一条特殊光线。 O<PO^pi
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坐标轴(系) Ac2(O6
光轴为Z轴,正方向为光线由物方开始传播的方向。反射镜可以使传播方向反转。坐标系采用右手坐标。在标准系统图中,弧矢面内的X轴指向显示器以里。子午面内的Y轴垂直向上。 N7'OPTKt&
通常传播方向沿着Z轴正方向从左至右。当有奇数个反射镜时,光束的物理传播沿-Z方向。因此,经过奇数反射镜之后,所有的厚度是负值。 B[=(#W
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衍射极限 v 8T$ &-HJ
衍射极限指光学系统产生象差的原因不是设计和制造缺陷,而是由于衍射物理效应。要判断系统是否是衍射极限,可以计算或者测量光程(OPD)。如果OPD的峰—谷差值小于波长的四分之一,那么就说系统处于衍射极限。 'j^xbikr
有很多其他的方法来判断一个系统是否是衍射极限,例如:斯特列尔比数(在同一系统里形成的有象差点像的衍射图峰值与无象差 (Fq5IGs
的峰值亮度之比。用于像质的评价)。RMS OPD;标准偏差,最大梯度误差,等等。当使用一种方法评价系统为衍射极限时,运用另外一种方法可能不是衍射极限,这是可能的。 W>r#RXmh
在一些ZEMAX的图,例如,MTF或Diffraction Encircled energy(衍射能量圈图)等,衍射极限可以选择显示出来。这些数据通常是通过追迹某视场角指定参考点的光线得到的。计算过程考虑了光瞳切迹;渐晕;F/#数;表面孔径;透射率等等因数,但不考虑实际存在的误差,光程差都定为0。 3&u_A?;
对于包含X和Y方向视场角都为0的系统(比如0.0X,0.0Y),参考视场位置为坐标轴上点。如果没有(0,0)视场,定义的第一个视场对应的坐标用于参考坐标。 iLP7!j
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边缘厚度 1c3TN#|)W
对于边缘厚度,ZEMAX使用两种不同的定义。通常来说,要计算一个特定表面的边缘厚度,采用下面的公式: I}e3zf>
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Zi为表面+y方向半口径对应的矢高, [U}+sTQ
Zi+1是下一面在+y方向半口径的矢高, _Jwq`]Z
Ti是表面在轴向的厚度。 d(vsE%/!
注意,边缘厚度计算时,使用的矢高是个表面在半口径矢高对应的各自的矢高,一般情况下都是不一样的。 pi=-#g(2
边缘厚度计算时由于一般采用+y方向口径,如果表面不是旋转对称,或者表面口径为指定时,这样的方法就不适用了。 l Z#o+d2Y
当采用边缘厚度求解时,情况则不同。因为边缘厚度求解可以改变中心厚度,也能改变光线在下一表面的入射点,这表示下一表面的半口径也可以改变。如果计算边缘厚度时使用下一表面的半口径,会出现无限循环或者循环定义。 )1N 54FNO
正由于此,边缘厚度求解计算边缘厚度时,对两个面都严格采用第一表面的半口径。第二表面的半口径不再被使用,虽然表面的曲率或者面型还要使用。 (8v7|Pe8
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有效焦距 ju}fL<