摘要 -_em%o3XC T]9m:zX9s 在
半导体产业中,晶片检测
系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微
结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的
物镜,工作在紫外
波长范围。作为一个例子,
模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。
PX2c[CDE^ ;SY\U7B\ qtMD CXZ^n 建模任务 [%pRfjM mV)+qXC /<{: I \< 结果 TB!((' S\*`lJzPM l1'6cLT` 结果 sOpep
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