摘要 \V*xWS h >s!K9 VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
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#iQ h9Y%{v NH<5*I/ /|eA9 ] 介质目录中的斜光栅介质 t<|NLk. oWC@w 0iwZT&O /x[jQM\ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
Ndcg/d 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
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'j NwG= <U* 斜光栅介质的编辑对话框 d
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U}PiY"S< XAe%m^ 2VJR$Pao 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
mM-8+H?~b 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
1PP $XJtyD 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
}XSfst5-H 斜光栅介质的编辑对话框 kT!9`S\
_oUHJ~&,
V` 1/SQX ZObhF#Y9 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
nC}6B).el 以下参数可用:
Tny%7xSx1 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
naw0$kXTA - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
bdibaN-h - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
S4h:|jLUF - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
4W)B'+ZK8 x>* Drm 7 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
tP2qK_\e= $W9{P; 斜光栅介质的编辑对话框 ^,;z|f'%* m$W < t7?Zxq eQD)$d_5 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
isZA oYVu 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
846$x$G4 q"<ac qK 斜光栅介质的编辑对话框 Xp8]qH|K .D:Z{|.1 43Qtj$F h0g:@ae%& EVVP]ND 首先,必须选择涂层材料。
q&/Yg,p\ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
]):<ZsT 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
g)_e]& MF'$~gxo 斜光栅的编辑对话框 R@6zGZ1
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tdSfi<y5I pSr{>;bN dUF&."pW e 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
'iGzkf}j 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
+tk{"s^r* ""1^k2fj 堆栈使用的评论 2#<xAR
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1!1beR] l*kPOyB 'eJ+JM<0% 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
1QU:?_\6@t 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
HN.3 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
&*7?)eI!i 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
MwR0@S}* 0LfU=X0#7 斜光栅介质的采样配置 jGEt+\"/QJ ^H2-RBE# 斜光栅介质采样
g|<]B$yN# _jNj-)RB_ |/2y-[;: 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
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] 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
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^@ 在右边,显示了介质的预览。
sm\f0P!rv 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
Qum9A DWID$w "ajjJ"x A eOXHQjuj 采样斜光栅#1 T.We: ,{ dd\n8f VsN pHQG] =9z[[dQ|L 采样斜光栅#2 /}PF\j9#4 lNL6M%e$Q 59%tXiO s_>
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