摘要 <+pwGKtD
c`AtKs)u VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
tecCU[O g/'MECB Bo_Ivhe[m IIs'm!"Y> 介质目录中的斜光栅介质 (*BQd1Z 27G6C`} z4{H= WFULQQ* 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
K`768%q 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
WOG=Uy$ mKQ!@$* 斜光栅介质的编辑对话框 ytKh[Uo !A, ] 5fA<I _ D ; Sq_DP1W 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
J9zSBsp_ 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
:WJ[a# 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
>@rsh-Z 斜光栅介质的编辑对话框 6ix8P;;}#
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U;Y{=07a@ I!|_C~I` 2 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
S{zi8Oc6 以下参数可用:
n0:'h}^ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
NDWpV - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
M6[&od - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
CMI%jyiX - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
]EC zb/ u`O
xY 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
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MU9tq[ odD^xg"L 斜光栅介质的编辑对话框 z}&?^YU*)` a4Qr\"Qm Lo5itW '%vb&a!.6 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
Az8>^|@ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
@7e h/|Y, !ZJ"lm 斜光栅介质的编辑对话框 }K!}6?17T %O#) =M~ ]Nz~4ebB M,7A|?O iC10|0%{ 首先,必须选择涂层材料。
xT6&;,|` 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
n,q+EZd 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
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XCc/\ 斜光栅的编辑对话框 $vlq]6V8
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8D@H4O. rlEEf/m: ,u8)g;8s 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
9~2}hXm; 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
"l &=a1l Ue^2H[zs- 堆栈使用的评论 $6e&sDJ
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7p}J]!Z +P:xB0Tm
D <5X?6*Qvr 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
Ab ,n^ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
2oyTS*2u_& 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
FR&4i" + 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
bw\fKZ ZG:#r\a 斜光栅介质的采样配置 nk|j(D M0zJGIT~b 斜光栅介质采样
v]SHude{ FKRO0%M4}Z &7"a.&*9xX 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
(ZH5/VKp 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
qkVGa%^ 在右边,显示了介质的预览。
7N9~nEU 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
;T0F1 pESlBQ7{I ywWF+kR_ ky>0 采样斜光栅#1 ?0
93'lA mO<sw ]wFKXZeK {5w'.Z]0v 采样斜光栅#2 z ea=vx>` {@, } M RP 'VEJ VtIPw&KHW 采样斜光栅#3 A`_(L|~ |TM&:4D]^ `2`Nu:r^ Rj6:.KEJ 采样斜光栅#4 9ZFvN*Zf' tVVnQX jyQBx 7yp7`|,p 文档信息 B^g+_; 1&N|k;#QS