摘要 2ZFK jj rG'k< X~7 VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现，并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现，以此定义其一般性的几何
结构。而且，几个高级规格选项可用，例如，添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项，并且讨论了其对光栅结构的影响。
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^oZs& +z [A/ +tv 介质目录中的斜光栅介质 Z["nY&.sI LR?#H)$ 
ktJLp Z<0O 9w< _XXQ 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
[~%;E[ky$ 可用于设置复杂光学光栅结构（所谓的堆栈）和傅里叶模式法（FMM）分析。
*j; r|P;g @G-k]IWi 斜光栅介质的编辑对话框 E
MbI\=>yS &wC.?w$ 
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:' 5m;wMW < 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
[t\Mu}b 首先，光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
4'e8VI0 这些材料既可以从材料目录选择，也可以通过
折射率定义。
L&k$ 4,Z9 斜光栅介质的编辑对话框 Ji?UG@
bWzc=03
]=$ ay0HC
CU M~* 在材料设置下面，可以定义光栅的几何结构。
y#W8] <dS" 以下参数可用：
G+yz8@ - 填充率（定义光栅的上部分和下部分）
43]&SXprH - z扩展（沿着z方向测量光栅高度）
\O4=mJ - 倾斜
角度左（脊左侧的倾斜角）
!f2>6} hE - 倾斜角度右（脊右侧的倾斜角）
T 1TZ+ \ `SbX`a0p2 如果倾斜角相同，通过点击不等号关联两个设置。
*qOCo_=P8 n8ya$bc 斜光栅介质的编辑对话框 yc}t(*A5 Q%h
o[KU 
+ Rd{ ?)2~ U} h
| Zk 为了添加可配置的涂层，必须激活应用涂层（Apply Coating）选项。
&BR?;LD 现在，额外的选项和结构的图形一起显示。
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Z) Bnc 斜光栅介质的编辑对话框 c>k6i?u:X7 LKG|S<s 
P"VLGa b%$C!Tq' he6)
L6T 首先，必须选择涂层材料。
: \`MrI^ 同样地，材料可以从材料目录中选择，也可以通过折射率定义。
L{ Zy7O]"d 接着，分别配置每个侧壁，顶壁和底壁的涂层厚度，如草图所示。
I[Y?f8gJ :CHd\."%+1 斜光栅的编辑对话框 ^(B*AE.
>QPS0Vx[
gQG iph | Darkj>$\ K 6Ua~N ^ 由于斜光栅由介质定义，必须在周期选项中设置周期。
,g.=vQm: ? 由于用这个特别的介质来设计光栅，因此常常配置为周期性。
@~ HD<K S-dV 堆栈使用的评论 sP8B?Tn 1W
7 {<lH%Tn
7 4UE-H) JC3)G/m(03 ] lTfi0}g_ 为了使用光学堆栈里的介质，有必要定义两个作为介质边界的表面。
2F]MzeW 一般来说，界面之间的距离必须手动设置。
8h 2?Q 对于斜光栅介质，介质高度（z方向）直接定义在介质配置中。
r}bKV ne 因此，表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
CAO{$<M5m 5eJd$}Lbc 斜光栅介质的采样配置 =V4!t|( 7 wkw/AZ{27 斜光栅介质采样
<GEn9;\
[Xg "B|FD0 YO61 pZY 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
&*SnDuc 在每个幻灯片的左边，编辑对话框展示了相关参数。
^)I:82"|? 在右边，显示了介质的预览。
g#*N@83C 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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N<WFe5 6R j
X 采样斜光栅#1 +UtK2<^:o m+ YgfR 
zq&lxySa *WG}K?"/ 采样斜光栅#2 ~E~J*R Ze UQ?8dw:E~ 
zKr(Gt8 ,vj^AXU 采样斜光栅#3 b iD7(AK B*7o\~5 
N0f}q1S<-A NM ]/OKs'H 采样斜光栅#4 2} -W@R =\.|' 
m` cG&Ar5 2 )YLs5>W% 文档信息 b :00w[" mLS Ai2Y 
