摘要 ~dgDO:) BP'36?=Zo VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
TN!j13, 9YIM'q>`v
;4R$g5-4X l&OKBUG 介质目录中的斜光栅介质 tZ:_ag)o u]<,,
w28o}$b` z1PBMSG 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
bf ]f=;.+ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
2,$8icM gPNZF\ r 斜光栅介质的编辑对话框 jaTh^L r?+%?$
8ndYV>{f BgurzS4- 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
4IB9,?p 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
]fx"4qKM 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
@Lpq~ 1eZB 斜光栅介质的编辑对话框 8'r2D+Vwm
}iXDa?6%
1-%fo~!l b3&zjjQ 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
6}gls}[0{e 以下参数可用:
*xx'@e|<; - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
{C 6=[ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
wKtl+}} - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
C]O(T2l{l - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
q
MfT>rH )M,OfXa 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
Hu\B"fdS m!|kW{B#A 斜光栅介质的编辑对话框 9_q#W'/X $?
m9")
-V-RP;"> prC;L*~8 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
]{)a,c NG 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
35Ij
..z0 oI0M%/aM 斜光栅介质的编辑对话框 nno}e/zqf H7z,j}l
@oNH@a
j% Od)Uv1 ^!<U_;+ 首先,必须选择涂层材料。
j#X.KM 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
\l'm[jy> 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
|jQ:~2U| K#%&0D! 斜光栅的编辑对话框 (_niMQtF}
8|):`u
~x A-V4. 8UW^"4 .R)D3NZp 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
S'|,oUWDb 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
-MW_|MG G<At_YS 堆栈使用的评论 T_i:}ul
Q}1 R5@7
3/aMJR:o
n(b(yXYm] na#CpS;pc 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
dU6ou'pf 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
ta35 K" 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
H2&@shOOQJ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
OP~HdocB I3=%h 斜光栅介质的采样配置 Ov};e D2<fw# 斜光栅介质采样
C\3y {s '{a/2
l vX{J' H]u 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
J,V9k[88 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
7R`M,u~f2^ 在右边,显示了介质的预览。
*?Lv3}E 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
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B\<Q ;RI2; @PN#p"KaT 采样斜光栅#4 ,LTH;<zB) s8QMewU
Q~814P8] `k=bL"T>\ 文档信息 K\>tA)IPSV 3Vsc 9B"w