摘要 Vxw?"mhP 7IvCMb&%R VirtualLab可用于分析任意
光栅类型。斜光栅在复杂
光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何
结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。
Pq`4Y
K ~#-`Qh jQ[Z*^"} iCc\p2p 介质目录中的斜光栅介质 H)4Rs~;{'g kQ:2 @SOm F:H76O` 8 |Rl|Th 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
7'<4'BGzl] 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
(*2"dd q2SkkY$_]y 斜光栅介质的编辑对话框 5 Fd ]3 6HEl1FK{@ JlH|=nIaj6 X~R
qv5@- 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
|e\:0O? 首先,光栅脊和槽的
材料必须在基础
参数选项中定义。
q6,xsO,+ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过
折射率定义。
PzF)Vg 斜光栅介质的编辑对话框 M0]fh5O
%ZxKN ;
w68qyG|wM ?Jma^ S 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
x^;nfqn| 以下参数可用:
o3`Z@-.G - 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
N1SR nJu<f - z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
w"Z>F]YZ - 倾斜
角度左(脊左侧的倾斜角)
3b_#xr- - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
ROfmAc 1n5&PNu 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
jALo;PDJ kiECJ@5p 斜光栅介质的编辑对话框 kP| !!N y"]> Rr }cf-r>WaR Cz(Pj S 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
Ex Qld 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
Sj*H4ZHD<& h(zi$V 斜光栅介质的编辑对话框 ,iHt*SZ,* $M><K %Wc-.ER xNONf4I:6J Vt&I[osC 首先,必须选择涂层材料。
NN$`n*;l 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
hVID~L$ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
eFx*lYjA A/.cNen 斜光栅的编辑对话框 G
cbal:q
$~2Ao[
vD*KJ3(c D QRt\! m1cyCD 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
ZWFH5#= 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
B[*i}k%i ,rN7X<s54 堆栈使用的评论 u|Ai<2b$
[IYs4Y5
k82'gJ;MC= E^qKkl hIw*dob 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
6-^+btl)# 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
(O&b:D/Y 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
QR#,n@fE 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
;xRyONt qR1ez-#K 斜光栅介质的采样配置 {Cd*y6lI XR+2|o 斜光栅介质采样
~jPe9 _Ih~'Y Fd i7p3GBXh[ 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
z6Hl+nq B 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
;CC[> 在右边,显示了介质的预览。
Qejzp/2 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。
|?0C9 H<>x_}& _7;#0B rUuM__;d 采样斜光栅#1 LPXwfEHOm ;^xku%u 3}vlj:L c2i^dNp_ 采样斜光栅#2 xo*a9H?@ rVO+
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