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m?LnO5Vs 内容简介 ':al4m" Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Fh t$7V 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 z@@w?>* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 =R+z\`2 Bqo8G-> 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 1e=<df 目录 wkSIQL Preface 1 zQY|=4NP 内容简介 2 Hj&mwn] 目录 i c6zghP3dR 1 引言 1 <?|v-(E 2 光学薄膜基础 2 cH$zDm1 2.1 一般规则 2 0Vu&UD 2.2 正交入射规则 3 \;w$"@9 2.3 斜入射规则 6 )
xRm 2.4 精确计算 7 N^i<A2'6S; 2.5 相干性 8 &E98&[`7 2.6 参考文献 10 iq s 3 Essential Macleod的快速预览 10 8)I,WWj 4 Essential Macleod的特点 32 QiDf,$t|, 4.1 容量和局限性 33 MD ETAd 4.2 程序在哪里? 33 c*0pF=3 4.3 数据文件 35 SCbN(OBN! 4.4 设计规则 35 w[g(8#* 4.5 材料数据库和资料库 37 ;Y:_}kN8_ 4.5.1材料损失 38 Co e
q< 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ,SEC~)L 4.5.2 材料库 41 LR :Qb]|" 4.5.3导出材料数据 43 H8^U!"~E 4.6 常用单位 43 n<Vq@=9AE 4.7 插值和外推法 46 '2`MT- 4.8 材料数据的平滑 50 K.A!?U= 4.9 更多光学常数模型 54 D$k<<dvv 4.10 文档的一般编辑规则 55 n,KOQI; 4.11 撤销和重做 56 I'"b3]DXG 4.12 设计文档 57 w&6c`az8 4.10.1 公式 58 #ma#oWqF } 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8Lm}x_
4.10.3 沉积密度 59 uc6;%=%+ 4.10.4 平行和楔形介质 60 :]?y,e%xu, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 *.g0;\HF 4.10.4 性能 61 WJH)>4M# 4.10.5 保存设计和性能 64 a3o4> 9 4.10.6 默认设计 64 8;'fWV?
U 4.11 图表 64 dV{N,;z 4.11.1 合并曲线图 67 b"`Vn, 4.11.2 自适应绘制 68 O0`k6$=6r 4.11.3 动态绘图 68 "wk~[> 4.11.4 3D绘图 69 [c6I/U=- 4.12 导入和导出 73 %lL^[`AR 4.12.1 剪贴板 73 OKDBzl 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 3:q\]]]S 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 JryC L] 4.13 背景 77 iUcDj: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 h-"c
)?p 4.15 生成Rugate 84 \Qa6mt2h 4.16 参考文献 91 vIk;x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 -C9_gZ 5.1 Jobs 92 JN5<=x5r 5.2 创建一个新Job(工作) 93 o)NQE? 5.3 输入材料 94 .SdHFWx 5.4 设计数据文件夹 95 .(!> *ka| 5.5 默认设计 95 =F>@z4[P- 6 细化和合成 97 .gPE Qc+D 6.1 优化介绍 97 {~=Edf
6.2 细化 (Refinement) 98 NL})_.Og 6.3 合成 (Synthesis) 100 6#NptXB 6.4 目标和评价函数 101 kYxb@Zn=| 6.4.1 目标输入 102 qPgLSZv 6.4.2 目标 103 FB<#N+L\ 6.4.3 特殊的评价函数 104 fV[(s7vW 6.5 层锁定和连接 104 Y6(I
%hE` 6.6 细化技术 104 + V:P-D 6.6.1 单纯形 105 v634{:'e 6.6.1.1 单纯形参数 106 d8 1u 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 EC6)g;CO 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]e0yC 6.6.3 模拟退火算法 109 h-rPLU;Bw 6.6.3.1 模拟退火参数 109
x Bn+-V 6.6.4 共轭梯度 111 !2dA8b 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L4th 7# 6.6.5 拟牛顿法 112 \k?uh+xl 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 y=!"++T]B< 6.6.6 针合成 113 _I;+p eq 6.6.6.1 针合成参数 114 xFZA18 6.6.7 差分进化 114 >YPC&@9
6.6.8非局部细化 115 hdB.u^! 6.6.8.1非局部细化参数 115 8nOMyNpy~M 6.7 我应该使用哪种技术? 116 =
;sEi:HC 6.7.1 细化 116 ["|' f 6.7.2 合成 117 >h3r\r\n3 6.8 参考文献 117 v?b9TE 7 导纳图及其他工具 118 \I
r&&% 7.1 简介 118 m&)5QX 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Pkx*1.uo 7.2.1 四分之一波长规则 119 7I~Ww{ 7.2.2 导纳图 120 t7 |uZHKK 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 nBs%k!RR 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 KjR^6v 7.5 斜入射导纳图 141 J(*QtF 7.6 对称周期 141 k/+-Tq; 7.7 参考文献 142 R["2kEF 8 典型的镀膜实例 143 T(@y#09 8.1 单层抗反射薄膜 145 / d
S! 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 AJ-p|[wPz 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 }V.Wp6"S 8.4 W-膜层 148 ns_5|*' 8.5 V-膜层 149 5ru&In& 8.6 V-膜层高折射基底 150 fm2,Mx6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 >Lo 0,b$ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 /s.O3x._' 8.9 四层抗反射薄膜 153 ..yuEA 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 I(fq4$ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 G%N/]]ll 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 YDBQ6X 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 a`5ODW+ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 x2B~1edf 8.15十五层宽带抗反射膜 159 V$u~}]z 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 q1j<p)( 8.17 1/4波长堆栈 162 !4uTi [e 8.18 陷波滤波器 163 xao'L 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 @MIBW)P< 8.20 褶皱 165 wCiDvHF5+C 8.21 消偏振分光器1 169 (p<QRb:&Z 8.22 消偏振分光器2 171 :5X1Tr=A 8.23 消偏振立体分光器 172 ND[u$N+5x" 8.24 消偏振截止滤光片 173 3ThCY` 8.25 立体偏振分束器1 174 iq$edq[ 8.26 立方偏振分束器2 177 &.ZW1TxE8 8.27 相位延迟器 178 &wR |