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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 sA2esA@C<o  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 {t!Pv 2y<  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 >|aVGY  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 9AJ"C7  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 -QK- w>  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) P!dSJ1'oC  
    课程概要 MdhD "Q  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 W. BX6  
    ?Ta<.j  
     [ J4n%  
    M|fC2[]v B  
    课程大纲 @,m 7%,  
    1.波动光学基础 XhUVDmeUMb  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 9[R+m3V/`  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 rvuasr~  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 -"rANP-UI  
    2.衍射元件概述 nK}-^Ur  
    □ 衍射光学元件概念 7%Ou6P$^fr  
    □ 衍射光学元件优点 QXW> }GdKZ  
    □ 光束分束、整形、扩散 g@Pq<   
    □ 傅里叶变换 57KrDxE}  
    □ 角谱理论 ^l<!:SS  
    □ 工作装置类型 -S#jOr  
    3.衍射光学元件理念及设计 ?&!e f {  
    □ 基本理念 8[;AFm?,`  
    透镜和衍射光学元件的作用 re4A5Ev$  
    □ 分束、整形和扩散的实质 OIDP#K  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 wjXv{EsMq  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 Nw{Cu+AwG  
    4.IFTA简介 0?cJ>)N  
    □ 基本设计步骤 <G'M/IR a  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 ]k8f1F  
    参数估算——周期和线宽的估算 UF$O@l  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 6F5g2hBz  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 ~C>clkZ  
    5.衍射元件设计案例 l#~pK6@W  
    □ 衍射分束器参数选择 9N<=,!;5~s  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 Xck`"RU<xA  
    □ 衍射整形器参数选择 WL?qulC}h1  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 @,9YF }  
    □ 衍射扩散器参数选择 h_]*|[g  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 Y<V$3h  
    6.光栅模拟分析 kj6H+@ {  
    □ 构建stack G[6i\Et   
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 Lrmhr3 w5  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 *Nfot v  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 z;MPp#Y  
    dL_9/f4   
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 e]5NA?2j  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 J=&}$  
    7.光栅概述 Wt=\hixj-  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 G;d3.ml/aZ  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 U1(cBY  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 GG"6O_  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 @1xIph<z  
    8.微纳光学元件制作 `F]  
    □ 多阶器件加工 }1%%`  
    □ 连续器件加工 e ^,IZ{  
    □ 传统套刻法 tfD7!N{  
    激光直写法 zXU g(xu  
    □ 纳米光子器件制作概述 iXq*EZb"R  
    □ 衍射光学元件公差分析 OL%}C*Zq  
    9.答疑 MiR$N  
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