上海光机所在干涉仪波前校准方法研究方面取得进展

近日，中科院上海光机所高端光电装备部研究团队在干涉仪测试的波前校准方法研究方面取得进展。相关研究成果以“High precision wavefront correction method ininterferometer testing”为题发表于Optics Express。

高精度光学元件已经充分应用于激光技术、光学通信、医学影像、天文学和空间探测、半导体制造和科学研究等领域。使用干涉仪是目前高精度光学检测的主要方法。为了得到测试元件真实的面形误差，须采用波前校准方法对干涉仪测试波前误差进行校准。然而，目前没有针对光学加工过程中的波前校准的完整方法。

图1.环带误差产生

图2.环带误差修复结果

本项工作中，研究团队针对斐索干涉仪测试中波前误差与实际表面误差之间的差异，提出了一种新的高精度光学表面波前校正方法。主要内容包括光学表面函数参数拟合、横向失真校正、错位误差消除和凹陷表面误差计算。并从函数参数拟合、射线追踪、插值等方面对该方法的误差进行了深入分析。零位测试配置中离轴抛物面镜的波前校准证明了该方法的有效性。结果显示，实验产生的环形误差显著减小，离轴方向误差从0.23λ提高到0.05λ（λ=632.8nm），非球面偏离的PV超过8.5mm。该研究在高精度光学元件检测过程中有重要意义。

相关链接：https://doi.org/10.1364/OE.526063