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  • ASML新一代EUV光刻机:公共汽车大小 造价1.5亿美元

    作者:佚名 来源:网易科技 时间:2021-09-02 09:16 阅读:1809 [投稿]
    荷兰ASML的新一代极紫外(EUV)光刻机有公共汽车大小,造价1.5亿美元。其前所未有的精度可以让芯片上的元件尺寸在未来几年继续缩小。

    总之,阿斯麦新一代极紫外光刻机有望延续芯片制造以及整个科技行业不断进步的理念,继续让摩尔定律保持活力。

    1965年,电子工程师、英特尔创始人之一戈登·摩尔(Gordon Moore)在行业杂志《电子学》35周年特刊上发表了一篇文章。摩尔在文章中指出,单一硅芯片上的元件数量每年大约翻一番,他预计这一趋势将继续下去。


    十年后,摩尔将他的预计从一年改为两年。近年来,尽管制造技术的不断突破和芯片设计的不断创新保持着这种势头,但摩尔定律的发展依旧受到了质疑。

    极紫外光刻机使用特殊的工程技术来缩小用于制造芯片的光波长,这应该有助于延续摩尔定律的趋势。这种光刻技术对于制造更先进的智能手机以及云计算机器,还有人工智能、生物技术和机器人等新兴技术的发展都至关重要。“摩尔定律的消亡被过分夸大了,”Jesús del Alamo说。“我认为这仍将持续相当长一段时间。”

    乔治敦大学研究芯片制造的研究分析师威尔·亨特(Will Hunt)表示:“没有阿斯麦的机器,就不可能制造出先进芯片。”“很多东西都要经过年复一年的调整和试验,而这些都是非常困难的。”

    他说,极紫外光刻机的每个部件都“极其复杂,复杂得令人吃惊”。

    制造芯片通常需要一些世界上最先进的工程技术。芯片最初是一个圆柱形的硅晶体,其先是被切成薄片,然后薄片再涂上一层光敏材料,反复暴露在已经设定好图案的光束下。没有被光接触的硅部分被化学反应蚀刻掉,从而绘制出芯片元件的复杂细节。然后每块晶片被切成许多单独的芯片。

    目前而言,不断缩小芯片元件尺寸仍然是从一块硅片中挤出更多计算能力的最可靠方法,因为芯片上封装的电子元件越多,计算能力就越高。

    芯片架构和元件设计方面的许多创新也使摩尔定律得以延续。例如今年5月份,IBM展示了一种新型晶体管,像丝带一样夹在硅片内部,可以在不降低光刻分辨率的情况下将更多元件封装到芯片中。

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    道到:(2021-09-02)