使用Essential Macleod进行薄膜设计 11月28-30日 上海
该课程涵盖了薄膜设计方法,并且还包含薄膜性能的理解、薄膜制备工艺、逆向工程、材料的属性与测量、系统中的薄膜性能及常见薄膜案例等。
- 地点时间 - 主办单位:Thin Film Center Inc. & 讯技光电科技(上海)有限公司 协办单位:常熟黉论教育咨询有限公司 授课时间:2018年11月28(三)-30(五) AM 9:00-PM 16:00 授课地点:上海(开课前两周邮件通知) - 专家介绍 - Chris Clark先生是美国Thin Film Center的研发总裁,Essential Macleod软件的开发者之一。他毕业于苏塞克斯(Sussex)大学电子工程专业,是一名注册工程师。Chris Clark曾在布赖顿技术学院(Brighton Technical College)担任讲师职务,在各种系统(从雷达探测到光学检验)的计算机和软件开发中积累了大量经验,于1993年加入Thin Film Center。他主要负责Essential Macleod软件的开发工作。已在光学薄膜类的期刊上发表超过20篇论文。 - 课程特色 - 交互式的教学能激发与开拓学员的设计思路,结合原厂专家Chris Clark先生的讲解深入了解Essential Macleod 薄膜软件的设计理念,从而延伸到各自的领域,满足学员的需求。 - 课程简介 - 为满足广大学员的需要,本次课程为灵活的交互式课程,学员全程上机操作。课程大纲可根据课程进展情况及学员需求随时变动。该课程涵盖了薄膜设计方法,并且还包含薄膜性能的理解、薄膜制备工艺、逆向工程、材料的属性与测量、系统中的薄膜性能及常见薄膜案例等。本次课程期间给学员提供Essential Macleod 薄膜软件,对软件有无经验的学员皆可参加。聘请的讲师为软件原厂开发者,在薄膜领域有丰富的经验,同时课程中留有时间给学员和讲师互动和交流。 - 课程大纲 - 1. 介绍软件 1.1 运行程序 1.2 创建一个简单的设计 1.3 绘图和制表来表示性能 1.4 3D绘图-用两个变量绘图表示性能 1.5 创建一个默认设计 1.6 文件位置 2. 通过剪贴板和文件导入导出数据 3. 约定-程序中使用的各种术语的定义 3.1 厚度(物理厚度,光学厚度,几何厚度) 3.2 单位定义 3.3 软件如何进行数据插值 3.4 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) |
1.行业新闻、市场分析。 2.新品新技术(最新研发出来的产品技术介绍,包括产品性能参数、作用、应用领域及图片); 3.解决方案/专业论文(针对问题及需求,提出一个解决问题的执行方案); 4.技术文章、白皮书,光学软件运用技术(光电行业内技术文档);
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melaniejiang:这个培训 培训费需要多少啊?(2018-08-21)