Essential Macleod软件基础培训 7月20-21日 常熟

3. 设计膜系：设计不同膜系的技术

3.1 斜入射薄膜

3.2 颜色模型（三基色，色度，CIE L*A*B*, CIE L*U*V*，主波长）

3.4 抗反膜

3.5 短波通/长波通滤波器

3.6 带通滤波器

3.7 干涉截止滤光片

3.8 窄带滤光片

3.9 负滤光片

3.10 诱导传输滤波器

3.11 优化： 

a) 优化目标

b) 优化方法(简单优化法，优化，模拟退火法，共轭梯度法，四分之一牛顿法，插针法，差分进化法)

c) 锁层和层链接

d) 基底影响

e) 锥角和带宽计算

f) 简单公差

4. Runsheet：在薄膜沉积过程中使用光学监控器来计算目标信号

4.1 简单光学监控器的描述

4.2 工具因子

4.3 机器配置-指定镀膜设备的特性

4.4 运行表单-在制造过程中显示目标监控信号

4.5 截止滤波器设计案例

5. Simulator：沉积过程建模决定运行表单是否完整或对误差敏感

5.1 在模拟器中不同类型的随机误差

5.2 光学监控算法的控制

5.3 边缘滤波器例子

6. 光学常数

6.1 导出薄金属薄膜和其他吸收薄膜的光学常数

6.2 基底光学常数的提取

6.3 采用光谱测量来计算基底的光学常数

7. 反演工程

7.1 加工过程中两种主要的误差类型（系统误差，随机误差）

7.2 采用反演工程来控制在实际加工制造过程中膜系设计的研究