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    • 2022-03-28 22:37生成薄而宽的准无衍射激光光片的光瞳掩模优化设计方法 [科技动态]
         科研团队提出了一种数值优化方法，可用来设计一种叫作光瞳掩膜的衍射光学器件，以生成薄而宽的光片。
    2022-03-28 19:55研究人员设计出基于等离子体的全息透镜 [科技动态]
         研究人员使用全息术设计了一种由等离子体制成的新型透镜，它可以使更先进的激光和光学技术的发展成为可能。
    2022-03-24 11:47单光子源为量子加密铺平道路 [科技动态]
         研究人员开发出一种可在室温下运行的新型高纯度单光子光源。该光源标志着朝着实用的量子技术迈出了重要一步，例如基于量子密钥分配的高度安全的通信。
    2022-03-24 09:04超短超强激光实验装置落地河南荥阳
         超短超强激光实验装置项目开工仪式在荥阳市广武镇举行。超短超强激光平台建设项目具有国际领先水平，也是国际上第一个拥有产业核心功能的超强激光应用研发平台。
    2022-03-18 16:43中科院理化所在飞秒激光直写三维无机纳米结构研究中取得新进展 [科技动态]
         研究团队以波长为780 nm的飞秒激光作为光源，突破光学衍射极限的限制，在无机光刻胶HSQ中获得了仅为激光波长三十分之一（λ/ 30）的26 nm光刻特征尺寸，并制备出了具有优异的耐高温和耐溶剂性能的3D无机微结构。
    2022-03-17 09:58深圳先进院提出梯度光场编码的双光子快速三维成像技术 [科技动态]
         中国科学院深圳先进技术研究院研究员郑炜团队提出一种基于激发光梯度编码的快速三维成像技术，可使双光子体成像速度比传统技术提升5至10倍。
    2022-03-16 12:05深圳大学开发用于肿瘤催化治疗的多光谱三维光声成像技术 [科技动态]
         利用天然酶和纳米酶联姻，成功地构建了级联催化反应系统，该系统具体由天然酶和纳米酶组成。该研究发展了多光谱三维光声成像技术，实现了活体级联催化反应中多分子事件的实时监测，为肿瘤催化治疗提供了精确指导。
    2022-03-15 22:02哈工大（深圳）科研团队在新型深紫外激光器件领域取得重要成果 [科技动态]
         研究团队提出了一种通过串联上转换过程间接产生的深紫外激光策略，即构建一种多壳层纳米粒子，在1550纳米远程通信波长激发下，实现290纳米处的深紫外激光输出。
    2022-03-15 16:46清华大学成功制备飞行微波光子的多体“薛定谔猫”态 [科技动态]
         清华大学交叉信息研究院段路明研究组在微波量子信息处理领域取得重要进展，首次在实验中借助超导量子电路成功制备了相干态飞行微波光子的多体“薛定谔猫”态，并验证了不同“猫”态之间以及多体“猫”态和超导量子比特之间的量子纠缠。
    2022-03-15 10:53中国科大制备出发光具有方向性的量子点 [科技动态]
         该研究团队在量子点合成过程中引入晶格应力，调控量子点的能级结构，获得了具有高度发光方向性的量子点材料，此材料应用在量子点发光二极管（QLED）中有望大幅提升器件的发光效率。
    2022-03-13 12:11研究人员使用平面透镜来加长3D显示的观看距离 [科技动态]
         研究人员发表在《Optica》上的报告中指出，他们的原型显示器在24厘米至90厘米的观看距离上表现出高效率和高色彩保真度。通过将这些特点结合起来创造出了一个更真实的观看体验。
    2022-03-10 22:00研究人员采用微型开关大大提高固态激光雷达分辨率 [科技动态]
         该激光雷达基于焦平面开关阵列（FPSA）打造，其中FPSA阵列是一种基于半导体的天线矩阵，可以像数码相机中的传感器一样收集光线。
    2022-03-09 22:44上海光机所在单频激光非线性光谱操控方面取得进展 [科技动态]
         中科院上海光机所高功率光纤激光技术实验室在单频激光非线性光谱操控方面取得进展。研究团队利用倍频过程中伴生的相位加倍效应，将相位调制展宽的激光在倍频后恢复为单频，从而绕过单频激光光纤放大时面临的受激布里渊散射难题。
    2022-03-09 11:32工程光波可快速记录3D显微镜图像 [科技动态]
         一种新技术能够快速获取3D图像，单次扫描是一种涉及细长光斑的技术，该光斑类似于“针”，可以捕获样本的3D图像。
    2022-03-08 15:12国望光学光刻机曝光系统生产基地项目获新进展
         国望光学研发生产基地位于北京经济技术开发区，规划建筑面积12万平方米，预计2023年投入运行后，将拥有350/280nm节点、90/110nm节点、28nm及以下节点极大规模IC制造投影光刻机曝光光学系统产品的研发、设计与批量生产供货能力。
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