介绍了双压电片镜自适应光学技术，同时为其在同步辐射光学领域中的应用与进一步发展提供前瞻性的思考与探索。根据目前已公开发表的相关文献资料，总结介绍了双压电片镜自适应光学技术，阐述了该技术的工作机理与关键参数，并对其在国际上具有代表性的同步辐射机构中的应用情况作出描述，并指出涉及的关键技术问题与未来的发展趋势：不仅要有效地解决"连接点效应"对双压电片镜技术的负面影响，还要实现亚微米乃至纳米级的聚焦光斑，这两项内容都是双压电片镜技术需要进一步解决的重要问题。未来，双压电片镜自适应光学技术可望在我国先进的第三代同步辐射装置-"上海光源（Shanghai Synchrotron Radiation Facility，SSRF）"二期工程建设中得到应用。
