1.空心阴极离子镀原理 H?j!f$sw
在本底真空为高真空的条件下,由阴极中通入氩器气(1-10-2) l*n4d[0J
在阴极与辅助阳极之间加上引弧电压,使氩气发生辉光放电,在空心阴极内产生低压等离子体放电,阴极温度升高到2300-2400K时,由冷阴极放电转为热阴极放电,开始热电子发射,放电转为稳定状态。通入反应气体,可以制化合膜。 zNJ-JIo%
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2.测控溅射工作原理 [USE&_RN
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先将真空室预抽至10-3Pa,然后通入气体(如氩气),气压为1-10 Pa时,给靶加负电压,产生辉光放电,电子在电场正作用下加速飞向基片时,与氩原子碰撞,电离出Ar和另一个电子; "QCVi R
轰击靶材,由二次电子电离的 越来越多,不断轰击靶材;磁场改变电子的运动方向,以电磁场束缚和延长电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率。 Bhw|!Y&%
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3.多弧离子镀工作原理 bGa"r
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其工作原理为冷阴极自持弧光放电,其物理基础为场致发射。 N!^5<2z@eT
被镀材料接阴极,真空室接阳极,真空室抽为高真空时,引发电极启动器,接触拉开,此时,阴极与阳极之间形成稳定的电弧放电,阴极表面布满飞速游动的阴极斑,部分离子对阴极斑的轰击使其变成点蒸发源,以若干个电弧蒸发源为核心的为多弧离子镀。 B;xGTl@8
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4.电阻蒸发式镀膜机 Ems0"e
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膜材即要镀的材料放于蒸发舟中,置于真空室中,抽到一定真空时,通过电阻加热膜材,使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源至基片的线性尺寸时,原子和分子从蒸发源中逸出后,到达基片形成膜。为了使膜厚均匀,可以利用电机带动基片旋转,并用膜厚仪控制膜厚,制出优质膜。
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5.E型枪工作原理 jd?NN:7
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