膜外⽩雾 zF`3 gl.
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 8)L*AdDAW!
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） i afE5b)
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： d$t40+v
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； \ ?**2{9&)
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 -]srp;=i
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ DF _X
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ q_V0+qH
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 O hVs #^
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 =>iA gp'#
⑦ 膜与膜之间的应⼒ H,QTYXi "
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 _%/}>L>-`8
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 r)^vO+3u
改善对策： `d\r;cE%lm
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 k*?I>%^6#T
洁） c!#:E`
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 Q >Qibr
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 Qm4o7x{q
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 =Lk R!R=
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 aNxAZMg
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 58 bCUh#uw
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 GZip\S4Y
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 _oG&OJ@
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 FAsFjRS
膜内⽩雾 W,XTF
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 Fv74bC %
可能的成因： q_kdCO{:df
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 Wp)*Mbq@
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 *v
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③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 F@ Sw e
④ 氧化物充氧不够。 ) ZfdQ3
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 ! -<p,z
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 7 aV%=_
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 QnQOm ""
⑧ 环境湿度⼤ ntFT>g{B
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 vS\Nd1~ ?
问题。 "]K>j'^Zs<
改善对策： |`Or'%|PR
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 U*3J+Y
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 a 2 IgC25
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ .*g0w`H5pU
燥、⼲净。 _{<seA
㈣改善环境 jhu 07HX_
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 Rk!X]-`=
㈥改善洗净、擦拭效果。 }}v9
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㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） >/ [GTqi
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） 'k;rH !R
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 U_x )#,4
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
