膜外⽩雾 !8@rK$DB
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 <S8W~ wC
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） Y-3[KH D
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： $jed{N7Y
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； QS [B
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 KC h
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ <%>n@A
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ vMX6Bg8
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 nN`Z0?
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 >@^yj+k
⑦ 膜与膜之间的应⼒ 3hXmYz(
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 y{`(|,[
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 ) ehB)X
改善对策： 2WPF{y%/
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 .p(6' TYnI
洁） 'ztL3(|X6
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 :DMHezaU
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 |aS~"lImh
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 RCh$j&Tn
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 v*H & F
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） ]opW; |{e
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 NB3Syl8g
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 du'}+rC
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 `
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膜内⽩雾 >C:"$x2"#(
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 N*
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可能的成因： u spkn1-
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 c8-69hb?
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 Oj"pj:fB
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 5X `w&(]m
④ 氧化物充氧不够。 - 7k|6"EwM
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 Tr+h$M1_Ja
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 I mPu}
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 8|5Gv
⑧ 环境湿度⼤ {1Ju} =69
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 FDVI>HK @
问题。 :Hzz{'
改善对策： @ .Z[M
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 *K+jsVDY
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 '&-5CpDUs
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ Mhv1K|4s
燥、⼲净。 ]&C:>
㈣改善环境 ~ U"by_
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 ]27>a"p59Y
㈥改善洗净、擦拭效果。 k5 aa >6K
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） .DDg%z
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） ! fi &@k
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 5u;Rr 1D
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
