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    [求助]玻璃镀膜后膜内起白雾,跪求大神们讨论产生原因 [复制链接]

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    只看该作者 20楼 发表于: 2018-08-25
    ①DOME温度过高,可以尝试降低温度。 }\Rmwm-  
    ②预清洁功率过大或时间过长,造成基板表面粗糙度增大引起发雾。 zX4RqI  
    ③H4和MGF2镀增透膜的话,可以温度设定在300℃左右。
    离线dcfcwdx
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    只看该作者 21楼 发表于: 2018-08-30
    回 ouyuu 的帖子
    ouyuu:没人觉得是散射吗? PJC(:R(j  
    问题还在结晶上,试着调整一下镀膜温度和速率,还有充氧。 ,%*UF6B M  
    其实有离子源会更好些。 (2017-08-21 17:22)  E5n7 <  
    6I +0@,I  
    温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢,比如说冲多点氧还是少点
    离线ouyuu
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    只看该作者 22楼 发表于: 2018-09-05
    回 dcfcwdx 的帖子
    dcfcwdx:温度、速率还有充氧具体要像哪个方向调节呢,比如说冲多点氧还是少点 (2018-08-30 13:27)  ^<CVQ8R7  
    7&ED>Bk  
    这个只有自己慢慢试。改变条件可以改变结晶大小,但是哪个更好要自己试的。
    离线dede
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    只看该作者 23楼 发表于: 2019-10-14
    问题弄好了吗?
    离线opticsrain
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    只看该作者 24楼 发表于: 2019-10-25
    起雾有时候不一定是膜的问题。玻璃基片洗不净的情况下也有可能导致起雾,玻璃认真清洁或者用手擦拭后镀膜试一下。
    离线jakzhou
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    只看该作者 25楼 发表于: 2019-11-17
    镀膜温度过高,氧化钛高温下结晶发雾!
    离线旋律
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    只看该作者 26楼 发表于: 2020-11-17
    发蒙或者发雾可以从工艺和膜料入手排查原因,如果只镀氟化镁和H4的话,问题应该在H4上面
    离线tony肖
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    只看该作者 27楼 发表于: 2021-06-29
    会不会温度过高
    离线tang714
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    只看该作者 28楼 发表于: 2021-08-17
    还有你的基底材料是什么?加了离子源没有?
    离线comebackz
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    只看该作者 29楼 发表于: 2022-11-02
    膜外⽩雾 ula-o)S  
    现象:镀膜完成后,表⾯有⼀些淡淡的⽩雾,⽤丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重的现象。 5 UEZpxnv  
    ⽤氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,(⼜称:可擦拭压克) WZ CI*'  
    分析:膜外⽩雾的成因较为复杂,可能的成因有: lTx_E#^s  
    ① 膜结构问题:外层膜的柱状结构松散,外层膜太粗糙; &,nv+>D  
    ② 蒸发⾓过⼤,膜结构粗糙。 1!#N-^qk  
    ③ 温差:镜⽚出罩时内外温差过⼤ S=UuEmU5N  
    ④ 潮⽓;镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ &.)=>2  
    ⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 RTOA'|[0M  
    ⑥ 蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀 VBhUh~:Om  
    ⑦ 膜与膜之间的应⼒ 9[0iIT$q$  
    改善思路:膜外⽩雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。主要思路,⼀是把膜做的致密 ZEqW*piI  
    光滑些不容易吸附,⼆是改善环境减少吸附的对象。 /$~1e7 W  
    改善对策: FQZ*i\G>>  
    ㈠ 改善膜系,外层加⼆氧化硅,使膜表⾯光滑,不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境(⼲燥、清 7({)ou x  
    洁) yaUtDC.|  
    ㈡ 降低出罩时的镜⽚温度(延长在真空室的冷却时间)减少温差、降低应⼒。 !=[Y yh  
    ㈢ 改善充氧(加⼤),改善膜结构。 Y ;Ym=n'  
    ㈣ 适当降低蒸发速率,改善柱状结构  ? wS}'  
    ㈤ 离⼦辅助镀膜,改善膜结构 &W<7!U:2m  
    ㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀(其功能是及时带⾛⽔汽) R/hf"E1  
    ㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 ,Z`}!%?  
    ㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 `ecseBn3d  
    ㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 D!j/a!MaKk  
    膜内⽩雾 8g#$Y2P  
    ⽩雾形成在膜内,⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 iJs~NLCgVu  
    可能的成因: I7ao2aS  
    ① 基⽚脏,附着前⼯程的残留物 sy&[Q{,4  
    ② 镜⽚表⾯腐蚀污染 +f3Rzx]  
    ③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 !<[+u  
    ④ 氧化物充氧不够。 q<YM,%mgj  
    ⑤ 基⽚进罩前(洗净后)受潮⽓污染 Oa[  
    ⑥ 洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹 ",#.?vT`  
    ⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 -]N2V'QB  
    ⑧ 环境湿度⼤ h<.5:a  
    改善思路:基⽚本⾝的问题可能是主要的,镀膜是尽量弥补,镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 ptCF))Zm'  
    问题。 8lyIL^  
    改善对策: )%(ZFn}  
    ㈠改进膜系,第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 .3 EZk86  
    ㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 *^?tr?e%I<  
    ㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤⼀下,更换的护板等真空室部件必须⼲ T.bFB+'E|  
    燥、⼲净。 At7!Pas#@g  
    ㈣改善环境 {cK<iQJ  
    ㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚,免受污染。 }M07-qIX{  
    ㈥改善洗净、擦拭效果。 0seCQANd  
    ㈦改善膜匹配(考虑第⼀层⽤Al2O3) yD9enYM  
    ㈧改善膜充氧和蒸发速率(降低) -gn0@hS0  
    ㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 vhe Y F@  
    ㈩抛光加⼯完成的光⾯,必须⽴即清洁⼲净,不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。