膜外⽩雾 wz+mFf
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 E.yFCaL
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） %B& O +~
分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： -/ 3h&g
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； *3^7'^j<
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 Zy Df@(z`
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ )1 @v<I
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ {\?f|mm q
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 &=zJ MGa
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 %AV3eqghCg
⑦ 膜与膜之间的应⼒ 5i$P$ R
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 uUl ;}W
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 ldG 8hK
改善对策： *{JD= ua
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 b`wT*&
洁） FpttH?^
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 q.: a4w J
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 wV-N\5!r%H
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 2AqcabI9
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 3 b?-83a
㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） m Gz'%?zj
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 AB!({EIi
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 7F~Jz*,B*W
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 NVVAh5R
膜内⽩雾 WnQ'I=E#~
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 : Q,O:
可能的成因： @8YuMD;
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 u`L *
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 L7II>^"B
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 I%?M9y.u6
④ 氧化物充氧不够。 ^ ' )4RU
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 4/o9K*M+
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 N}| 1oQkjf
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 v@X [0J_8
⑧ 环境湿度⼤ Z,3CMWHg
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 R plcM%YJn
问题。 EY1L5 Ba.
改善对策： 6{Bvl[mhI
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 ]~WIGl"g
㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 ,! ~U5~
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ I1ibrn
燥、⼲净。 'u [cT$
㈣改善环境 d{^ K8T3
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 I#yd/d5^
㈥改善洗净、擦拭效果。 [o'}R`5)
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） or` "{wop
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） ]sI{ +$~:c
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 wRWKem=
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
