膜外⽩雾 {> d \
现象：镀膜完成后，表⾯有⼀些淡淡的⽩雾，⽤丙酮或混合液擦拭，会有越擦越严重的现象。 CN6b 982&
⽤氧化铈粉擦拭，可以擦掉或减轻，（⼜称：可擦拭压克） CpU
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分析：膜外⽩雾的成因较为复杂，可能的成因有： c3 )6{
① 膜结构问题：外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙； nFjaV`6`@
② 蒸发⾓过⼤，膜结构粗糙。 q4niA
③ 温差：镜⽚出罩时内外温差过⼤ R=C+]
④ 潮⽓；镜⽚出罩后摆放环境的潮⽓ 2E.D0E Cu
⑤ 真空室内POLYCOLD解冻时⽔汽过重 +vYV x<uTQ
⑥ 蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀 7Q|v5@;pU
⑦ 膜与膜之间的应⼒ s,j=Kym %
改善思路：膜外⽩雾成因很多，但各有些特征，尽量对症下药。主要思路，⼀是把膜做的致密 ;It1i`!R
光滑些不容易吸附，⼆是改善环境减少吸附的对象。 hM[I}$M&O
改善对策： -+Z&O?pSH
㈠ 改善膜系，外层加⼆氧化硅，使膜表⾯光滑，不易吸附。改善镜⽚出罩时的环境（⼲燥、清 IIAm"=*
洁） in> ?kbaG+
㈡ 降低出罩时的镜⽚温度（延长在真空室的冷却时间）减少温差、降低应⼒。 36d6 KS 7
㈢ 改善充氧（加⼤），改善膜结构。 RWZjD#5%Z
㈣ 适当降低蒸发速率，改善柱状结构 R aA7 U
㈤ 离⼦辅助镀膜，改善膜结构 7G%^8
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㈥ 加上polycold解冻时的⼩充⽓阀（其功能是及时带⾛⽔汽） 8I b 5
㈦ 从蒸发源和夹具上想办法改善蒸发⾓。 "4CO^ B
㈧ 改善基⽚表⾯粗糙度。 DuRC1@e
㈨ 注意polycold解冻时的真空度。 RCMO?CBe
膜内⽩雾 KS;Wr6]@(O
⽩雾形成在膜内，⽆法⽤擦拭⽅法祛除。 H6Kt^s<6xu
可能的成因： .c@,$z2M
① 基⽚脏，附着前⼯程的残留物 R}$A>)%dx
② 镜⽚表⾯腐蚀污染 CMfR&G,)
③ 膜料与膜料之间、膜料与基⽚之间的匹配。 S^)xioKsJ
④ 氧化物充氧不够。 #Q d"d3QG
⑤ 基⽚进罩前（洗净后）受潮⽓污染 \7q>4[
⑥ 洗净或擦拭不良，洗净痕迹、擦拭痕迹 m</nOf+C
⑦ 真空室脏、⽔⽓过重 )C >M74Bt
⑧ 环境湿度⼤ %)L|7v<
改善思路：基⽚本⾝的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本⾝最⼤的可能是膜料匹配 Ekz)Nh)vGR
问题。 /&RS+By(i
改善对策： ZRYHsl{F+
㈠改进膜系，第⼀层不⽤氧化锆类会产生白晕的膜料。 o
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㈡尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备⼯作。 $B@K
㈢真空室在更换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤⼀下，更换的护板等真空室部件必须⼲ }#E~XlX ^
燥、⼲净。 zg{
㈣改善环境 'In qa;TQz
㈤妥善保护进罩前在伞⽚上的镜⽚，免受污染。 7;NvR4P%
㈥改善洗净、擦拭效果。 L)_L#]Yy
㈦改善膜匹配（考虑第⼀层⽤Al2O3） w]Ci%W(
㈧改善膜充氧和蒸发速率（降低） v H vwH
㈨加快前⼯程的流程。前⼯程对已加⼯光⾯的保护加强。 bdr !|WZ
㈩抛光加⼯完成的光⾯，必须⽴即清洁⼲净，不能有抛光粉或其他杂质附着⼲结。
