[求助]抛光一个半小时后~玻璃镜面还是有细微砂眼~ [复制链接]

在磨了2笔W14（304）后抛光一个半小时，用放大镜检查表面还是有细微砂眼，同事说一个半小时应该可以把砂眼完全抛掉，请问这是什么原因造成的，我现在做的沥青胶盘柏油和松香的比例是1：4.5 f
1cl';  
请教如何解决这个问题！

抛光室被空调的影响是有可能的，温度低有可能让抛光模变硬 Z3;=w%W  
或者注意抛光粉的材料。

上楼说得有理,这也是一个因素!

你是磨平面还是球面？是抛光还是研磨？是经过铜质研磨盘初抛还是某种抛光皮？玻璃材质是光学还是其他。304是啥不懂。 W-Of[X{<  
初抛也好，精抛也好。都会存在一定的可视瑕疵。要探讨明白是玻璃本身的问题还是在抛光过程产生的。否则，不好讲如何应对。

首先你要先想明白精磨的目的是什么?抛光的目的又是什么? Zg
Bckb  
大概的计算一下你的镜片在W14之后的破坏层深度是多少! <G9<"{  
再看看你的抛光1.5小时的消耗量是多少! m5qCq9Y  
很简单的问题哦~~~~~~~~~~~~~~~~~~~ lko3]
A3  
你同事说的一定是对的吗? sL mW\\kA>  
做光学加工要凭数据,不是经验,更不是谁说了就算的!!!

用什么样的抛光粉？是否考虑的抛光粉的问题？ paco_xiang@meanselect.com

在用W14金刚砂前，基片表面没有达到一定的光洁度。这样，即使使用W14研磨也不行。

同意4楼的讲法，W14的单面破坏深度一般是16－18微米，要磨好，最好单面磨掉20微米为安全。    要快的话，可以增加磨液浓度，加快磨速。 j}"]s/= 6  
    我试过1200R/min的速度，25分钟就磨好了。

有两方面的原因 .一是精磨W14的没磨好.二是镜盘出现走动了 

头一道砂的破坏层没有处理好，二道砂时间短，或细磨量留少了，导致上一道砂的表面凹凸层没有被磨掉。如果抛光时出现胶层走动，镜盘与抛光盘之间面型吻合不好，细小的砂眼当然不会被抛掉。 NT'Ie]|  
处理方法：尺寸足够时，或重新细磨；或重新做抛光盘；或加压，提升主轴转速。或延长抛光时间。。。。。。。