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    [原创]高平行度光学元件表面面形测量方法 [复制链接]

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    离线hytc42
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2015-12-22
    对于高平行度透/反射类元件,在布儒斯特角或者正入射情况下检测时会出现因为后表面多次反射而产生的自干涉条纹问题,形成多组自干涉条纹,测试干涉条纹和自干涉条纹相互叠加。在测试的干涉条纹中带有很明显的自干涉条纹,造成最终的检测波面出现数据的丢失,会严重影响到面形的计算。 L?5f+@0.  
    +*}{`L- :  
    为了防止检测时候自干涉条纹的产生,一般都在加工时候使光学元件前后两个面的楔角大于1′,这样就能防止后表面的多次反射产生的影响,但是对于一些特殊要求的光学元件,平行度要求都比较高(优于20″或更小),这就要求通过合适的检测方法来解决自干涉条纹的问题。 ^e Gue  
    2;$ k(x]  
    对于反射类的高平行度光学元件,检测的时候可以在后表面涂凡士林,可以防止自干涉条纹的影响,但是对于透射/反射类镀膜元件,后表面涂凡士林会对表面的质量造成污损,所以无法采用这种方法进行检测。 !TKkec8$  
    usFfMF X  
    Zygo干涉仪中的多表面傅里叶变换移相干涉方法(FTPSI)可以区分面形的测量(波长移相干涉仪中),从多组条文中解包出待测面形。但对对待测元件的入射角度、元件的平行度和厚度有特殊要求,在我们检测过程中有些元件也无法测量。这种测量方法的好处还可以测量平行度比较好的材料光学均匀性,具体测量方法可参见附件zygo说明书。 x%N\5 V1  
    ~rD={&0  
    VeriFire MST PSurf and PHom Application Manual 0486_B.rar (1270 K) 下载次数:29 !ABiy6d  
    445o DkG  
    4D公司的FizCam2000动态干涉仪采用短相干光源,工作波长为658nm,通过调整其延迟光路(光程的匹配ΔL),可以实现定位干涉,即可以选定被测表面对其进行精确测量。其光源相干长度约300um, 对于厚度大于0.3mm的平行平板,可以避免后表面多次反射而产生的自干涉条纹,进行有效精确地测量。 'zZcn" +!  
    l"(6]Z 4  
    以上是在检测过程中使用方法的总结和建议,希望可以与大家一起分享、交流、学习! QA#3bFZt1n  
     
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    离线彭亦超
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    只看该作者 1楼 发表于: 2015-12-24
    学习一下,强身健体
    离线诠释没落
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    只看该作者 2楼 发表于: 2016-01-07
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    只看该作者 3楼 发表于: 2018-11-01
    感谢楼主分享