我就不设置和需要下载了，直接上正文，省的有的朋友看不到！ :@ yEQ#nFp
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先说下清洗的难点： z[ N`s$;
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1.抛光粉残留. pd?M f=>#
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尤其是镀滤光片的产品，镀完膜后有一点残留都能显现出来。为什么那么难清洗干净呢，因为抛光粉颗粒非常的小，而且在研磨过程中产生电荷，在超声波清洗的时候也会产生电荷，出现吸附现象。加上产品抛光面有存在的沟壑也会存积抛光粉，如果再在生产过程中抛光粉被风干，那就更难清洗彻底了。 :'Vf
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2.切割后的玻璃渣残留. YqscZ(L:y
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玻璃在划片切割过程中，玻璃渣附着在产品的表面，由于大气压产生的光胶效应，附着牢固非常难清洗掉。 ' B |JAi?
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3.沥青、松香、白蜡、抛光粉等的混合体脏污残留. xR~h wj
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由于除沥青、松香，白蜡等的溶剂不能彻底的清除干净，此脏污会带到后道清洗槽，后道又以除油清洗剂为主，所以无法有效的清除这些物质的残留， "69s) ~
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4.各种印子，如口水印，指纹印，水迹印等等. Zpt\p7WQ
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一般的清洗剂清洗完后可能直观的看不到印子了，其实印子地方的玻璃已经出现了水解，哈气能够检查到存在，镀膜后就是不良品。 #<fRE"v:Q
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5.尘点颗粒. .xC Z1|+gG
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一般意义上的尘点颗粒都比较好洗，但一旦经过烘烤固化，和油污混合而油污又风干变性等，就非常难清洗干净了。 Ov@gh
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6.软材质玻璃也是清洗难点. 2DA]i5
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因为材料的化学特性不稳定，容易出现清洗造成的道子、麻点、发雾。不耐酸碱、不耐强度大点的超声清洗，造成了很多清洗工艺的矛盾点。所以一直难以做到批量清洗，以手工擦拭为住，且合格率和工作效率非常低。 U gat1Pz
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解决方案： HZE#A b*L
第1—5个问题的解决方案 :
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脏污一般情况下分两大类： G[ PtkPSJ
第一类：有机类 第二类：无机类 L(6d&t'|-R
清洗的方法一般分三种： AYBns]!
第一种：物理清洗法 第二种：化学清洗法 第三种：物理和化学配合法 &ANf!*<\E
A.但现在市面上效果最好的清洗剂一般也只能做到对有机油污类脏污软化和乳化作用，如果碰到无机脏污和有机脏污混合体的情况下就难以彻底清洗干净了。 >>r (/81S
B.抛光粉颗粒小，颗粒在抛光研磨清洗过程中会让其带上电荷而附着力加强的问题，一般清洗剂很难清洗彻底。 h'llK6_)
C.玻璃渣、各种冷加工辅助材料残留、各种印子造成的产品表面水解层也是非常顽固的脏污，用一般的清洗剂也很难去除彻底。 yZY \MB/
根据以上的问题，解决的途径是： :U|1 xgB
1.清洗剂对脏污和产品之间间隙必须要有很强的渗透性 P\tB~SZ*
2.清洗剂对脏污必须有让其变性破坏其组织的能力 bIDj[-CDG
3.在对脏污组织破坏的同时破掉所带的电荷 0D.Mke )
4.清洗剂选取的原材必须亲水性要好，好漂洗，不残留。反之一样会出现洗剂残留脏污。 fUWG*o9
只有具备了以上特点的清洗剂才能对顽固性脏污起到彻底清洗干净，我用过两种方案的清洗剂可以达到这个效果了，做清洗前处理用，瓦解脏污的顽固性的根源。第一种清洗剂是碱性和酸性配合使用前处理清洗剂，形成一个清洗组合；第二种是碱性单品前处理清洗剂。（在下面有清洗工艺有产品型号） bW427B0
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第6个问题的解决方案 au(D66VO
在光学行业内，软材质玻璃（比如SF57，镧玻璃系列）能真正做到冷加工完就直接上超声波清洗的，清洗完后直接镀膜OK的，合格率达95以上的清洗剂还没有，如果说有的肯定是忽悠。 手工擦拭会有很多擦拭印不良，直接清洗表面脏污清洗的更是不彻底。以此我和大家分享下我对软材质玻璃清洗的经验和心得： C^Yb\N}S
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1.手工粗擦拭和超声波清洗相结合，合格率一般能达到95%以上 。粗擦拭要选用浸泡式粗擦拭，这样的速度快，手法需要根据产品的规格而选，具体粗擦拭手法，用的溶剂和细节就不在这里详说了。 g/d<Zfq<{
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2.超声波槽内用的清洗剂必须要用中性的，但不是每家供应商的都能用，要根据产品配上合适的参数。要根据具体情况设定参数才能做出良品来。 NG=-NxEcN
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光学玻璃清洗剂工艺 `g?Negt\v
硬质白玻璃清洗工艺： KZY}%il!`
清洗前处理→去各种前处理时变性油污和抛光粉等→纯水漂洗→纯水慢拉→热风烘干 9rX&uP)j^#
方案一： (S5R !lpO
清洗前处理： }"H,h)T
清洗剂C加热到80-85℃，原液浸泡40-120秒不等(视产品赃污程度而定) →水漂洗→清洗剂D原液浸泡（常温-55℃）→水漂洗 。（或者用AH-30加热到80-85℃，原液浸泡40-120秒） .hb:s,0mP
A. 去各种前处理时变性油污和抛光粉等： iq8<ov
AH-32清洗剂(碱性粉剂)3-4％配水（视设备情况配置1-3槽），温度在45-55℃ B"w?;EeV.
B.纯水漂洗： wU36sCo
纯水槽设3-4槽（由后向前溢流），纯水电阻率在10MΩ以上(纯水纯度指标要求)，视产品要求而定。 <$$yw=ef
C.纯水慢拉： H2 {+)
纯水温度控制约55℃，有匀速满拉装置。 2 a)xTA#
D.热风烘干: wW P }C D
有过滤热风干燥，风速约1M/秒，温度90-95℃约烘烤2.5-3分钟 +) om^e@.
方案二： m 9WD T
清洗前处理→去各种前处理时变性油污和抛光粉等→纯水漂洗→异丙醇脱水→异丙醇蒸汽烘干 !-x$L>1$
A.清洗前处理： RL XL&
清洗剂C加热到80-85℃，原液浸泡40-120秒不等(视产品赃污程度而定) →水冲洗→清洗剂D原液浸泡（常温-55℃）→水冲洗（或者用AH-30加热到80-85℃，原液浸泡40-120秒） 4Z=_,#h4.
B. 去各种前处理时变性油污和抛光粉等： tY<4%~%X
AH-32清洗剂(粉剂)3-4％配水（视设备情况配置1-3槽），温度在45-55℃ > >)b'c
C.纯水漂洗： NNR`!Pty
纯水槽3-4槽，纯水电阻率在10MΩ以上(纯水纯度指标要求)，视产品要求而定。 .VJMz4$]O
D.异丙醇脱水： 8'[7
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异丙醇槽3-4槽脱水，常温比重最后一槽控制在0.785-0.790间 {]!mrAjD
E.异丙醇蒸汽烘干： YlQ=5u^+
异丙醇慢拉进入异丙醇蒸汽烘干槽烘干(蒸汽温度：80℃)约3分钟 n,(sBOQ
注：清洗槽和漂洗槽清洗产品时要开超声，振板的功率约在3-4W/CM2 X7 MM2V
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T*Exs|N2P-
-----此工艺乃冰山一角，尽供参考 HZB>{O
如平板滚刷清洗、喷淋清洗、溶剂清洗、蒸汽清洗等就不一一列举。如有需要可与我联系。 t9` .bx8
有想了解和交流的朋友可以加QQ：294955027，电话13620221452 罗生 /9* B)m"
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