切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 2570阅读
    • 2回复

    [求助]讨论平面抛光合理的工艺参数 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线mqgd
    实习生
     
    发帖
    33
    光币
    18
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2013-04-13
    关键词： 参数工艺抛光
    平面抛光合理的工艺参数应该是怎样的？具体来说：  PWH^=K  
    假设磨盘在下，工件在上，那么工件摆速和主轴转速是什么样的比例关系？ {uU 2)5i2-  
    工件直径和磨盘直径是什么样的比例关系？ NjX[;e-u  
    工件摆幅和磨盘直径是什么样的比例关系？ ExVDkt0  
    以上比例关系与磨盘转速又有什么样的关连？ gZO&r#   
    请高手赐教！ _X4!xbP  
    mdW~~-@H  
    QQ：457057373 f'X9HU{Cz  
    a 7#J2r  
    [ 此帖被mqgd在2013-04-16 18:34重新编辑 ]
     
    回复
    举报
    分享到
    离线rgjmxj
    实习生
    发帖
    7
    光币
    7
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2013-04-22
    高速，低抛不一样。主要取决于加工者
    回复
    举报
    离线mqgd
    实习生
    发帖
    33
    光币
    18
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2013-04-22
    高速和低速在哪些方面不一样？
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表