最近确定超声波工艺条件,发现洗新光胚的时候能清洗干净,半成品(2面镀膜只镀呢一面)也能洗干净,但成品(2面均已镀膜)却很难洗干净,主要是一些灰尘点,很难让我理解.希望大家讨论讨论超声波清洗成品的问题.我自己的见解是: j) vlM+
1.水质. (矛盾之出水质出问题,新光胚和半成品也应该洗不干净) fZWGn6$
2.镀膜后,表面不光滑,影响超声波清洗.(矛盾半成品没问题)
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3.洗的成品膜层中含MGF2吸水后,水中杂质进入膜层,影响清洗.(矛盾半成品没问题) Wsj=!Obc
还有成品放置(不垂直放入清洗夹具)的问题以及最后烘干室热风的问题,但由于新光胚和半成品没问题很让人郁闷. -p,x&h,p
请大家帮忙分析分析,是不是含MGF2的成品不能用超声波清洗,现在上头催的急,各位发表下看法,帮帮忙,静侯佳音,以及各位有什么好的经验讲讲.