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    [求助]关于Ta2O5用于三层增透膜时 [复制链接]

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    离线dede
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2012-02-15
    关键词: 增透膜
    Ta2O5用于三层增透膜时,零件发黄,吸收大,其镀时参数是250度,速度为3埃/秒,充氧1E-2,2E-2,均试过,请教过很多高手,好象均无有良策?
     
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    离线laohu0504
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    只看该作者 1楼 发表于: 2012-10-16
    解决问题了没有呢?  可以联络laohu0504@163.com Sv{n?BYq  
    离线dede
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    只看该作者 2楼 发表于: 2012-10-23
    现在不用TA2O5了,用H4代替 V%r`v%ktF  
    f?Zjd&|Ch  
    离线jiangguang
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    只看该作者 3楼 发表于: 2013-06-15
    什么高手啊都 加离子源 UJI2L-;Ul  
    离线crl0129
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    只看该作者 4楼 发表于: 2013-11-21
    学习一下!!
    离线dididida
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    只看该作者 5楼 发表于: 2019-11-05
    大虾,还在吗?我最近也是做了一个用SIO2+TA2O5 9层结构并且最外层加MGF2的增透膜系,加热工艺,温度270,速率2.5-3.5,也是遇到了380nm附近一段吸收很大的问题,想请教一下你之前的这个问题是有解决吗?可以给我点意见吗