转帖『光电论坛』光学系统的名词解释(作者: zfw0080 小马过河) WX[dM
}L
pg}DC0a
aperture stop( 孔径阑) - 限制进入光学系统之光束大小所使用的光阑。 V@+<,tjq
^x1D]+
astigmatism( 像散) - 一个离轴点光源所发出之光线过透镜系统后, 子午焦点与弧矢焦点不在同一个位置上。 I`n1M+=%
;KjMZ(Iil1
marginal ray( 边缘光束) - 由轴上物点发出且通过入射瞳孔边缘的光线。 ywsz"/=@
i7w}`vs
chief ray( 主光束) - 由离轴物点斜向入射至系统且通过孔径阑中心的光线。 UXdC<(vK
raI~BIfe
chromatic aberration( 色像差)- 不同波长的光在相同介质中有不的折射率, 所以轴上焦点位置不同, 因而造成色像差。 ?'$.
-z:
3Ns:O2|
coma( 慧差) - 当一离轴光束斜向入射至透镜系统,经过孔径边缘所成之像高与经过孔径中心所成之像高不同而形成的像差。 lj}1'K@M
Om?:X!l"
distortion( 畸变)- 像在离轴及轴上的放大率不同而造成, 分为筒状畸变及枕状畸变两种形式。 ~pBxFA
?$8 ,j+&I
entrance pupil( 入射瞳孔) - 由轴上物点发出的光线。经过孔径阑前的组件而形成的孔径阑之像, 亦即由轴上物点的位置去看孔径阑所成的像。 {*]=qSz
#.G>SeTn2}
exit pupil( 出射瞳孔)- 由轴上像点发出的光线, 经过孔径阑后面的组件而形成的孔径阑之像, 亦即由像平面轴上的位置看孔径阑所成的的像。 B8#f^}8
A`8}J4
field curvature( 场曲) - 所有在物平面上的点经过光学系统后会在像空间形成像点, 这些像点所形成的像面若为曲面, 则此系统有场曲。 :-'ri Ry
Sm I8&c
field of view( 视场、视角)- 物空间中, 在某一距离光学系统所能接受的最大物体尺寸, 此量值以角度为单位。 cJE>;a
m5Laq'~0_
f-number( 焦数) - 有效焦距除以入射瞳孔直径的比值, 其定义式如下: 有时候f-number也称为透镜的速度, 4 f 的速度是2 f 速度的两倍。 E6&uZr
D]>86&
meridional plane( 子午平面) - 在一个轴对称系统中,包含主光线与光轴的平面。 ?Kz`
O>"6
wYxFjXm
numerical aperture( 数值孔径) - 折射率乘以孔径边缘至物面( 像面) 中心的半夹角之正弦值,其值为两倍的焦数之倒数。数ˋ 值孔径有物面数值孔径与像面数值孔径两种。 'w$we6f
&)'kX
sagittal plan( 弧矢平面、纬平面) - 包含主光线, 且与子午平面正交的平面。 w!Lb;4x ?
1~ZHC[ `
sagittal ray( 弧矢光束、纬光束) - 所有由物点出发而且在弧矢平面上的斜光线。 -){^
Q:u
gdn,nL`dP
ray-intercept curve( 光线交切曲线) - 子午光线截在像平面上的高度相对于经过透镜系统后发出之光线的斜率之关系图; 或是定义为经过透镜系统后的光线位移相对于孔径坐标的图。此两种定义法可依使用者需要选择,在OSLO 中采用后者。 f*H}eu3/j
YwTtI ID%
spherical aberration( 球面像差)- 近轴光束与离轴光束在轴上的焦点位置不同而产生。 sVl:EVv
"kuBjj2
vignetting( 渐晕、光晕)-离轴越远( 越接近最大视场) 的光线经过光学系统的有效孔径阑越小,所以越离轴的光线在离轴的像面上的光强度就越弱,而形成影像由中心轴向离轴晕开。 Fe>#}-`
{ dxyBDK
孔径光阑: 限制进入光学系统的光束大小所使用的光阑。 D
`3yv
R
oTa+E'q
※球差:近轴光束与离轴光束在轴上的焦点位置不同而产生的像差。 `];[T=
ha'm`LiX
※像散:一个离轴点光源所发出光线经过系统后,子午焦点与弧矢焦点不在同一位置上。 Z"8cGN'
{}gk4xr
※边缘光束:由轴上物点发出且通过入瞳边缘的光线。 JG+o~tQC
nLLHggNAV
※主光束:由离轴物点斜向入射至系统且通过孔径光阑中心的光线。
rlh6\Fa
(HgdmN%
※色像差:不同波长的光在相同介质中有不同的折射离,所以轴上焦点位置不同,因而造成色像差。 sN/Xofh
[
^ \)
※角放大率:近轴像空间主光线角与近轴物空间主光线角的比率叫做角放大率,角的测量与近轴入瞳和出瞳的位置有关。 K?<Odw'k
46JP1
※切迹法: *m Tc4&*
切迹法指的是系统入瞳的连续均匀的光线。选择默认,瞳处的光线总是连续均匀的。然而有时也会有非连续均匀的光线。在这种情况下,ZEMAX支持光瞳切迹法,也就是改变光瞳处的光波振幅。有三种类型的切迹:均匀型,高斯型,矩阵型。对每一种类型(除连续均匀以外)切迹因素取决于光瞳处振幅的变化率。 ~bQ:gArk
@)B5^[4(;
※后焦长度: NNV.x7
ZEMAX定义的后焦长度是沿着Z轴的方向,最后一个玻璃面到像面的距离。如果没有玻璃面,后焦的长度是Surface1到近轴像面的距离。 |"&4"nwa
{*
_ W
※主像面:主像面(有时又叫主点)指的是物和像空间共轭位置有特定的放大率。主像面包括放大率为+1的平面,角放大率为+1的节平面,放大率为-1反节面,和放大率为0的像方焦平面和物方焦平面。除了焦平面之外,其他主像面之间也相互构成共轭面。也就是说像空间的主像面与物空间的主像面是共轭面,等等。如果透镜的物空间和像空间有相同的折射率,那么节面与主像面重合。 wA+4:CF@
k5<