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    [下载]中频磁控溅射制备GaN薄膜 [复制链接]

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    离线chenchao
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2011-12-18
    关键词: 磁控溅射薄膜
    中频磁控溅射制备GaN薄膜摘要:采用中频磁控溅射技术,以金属 Ga 为靶材料,在 Si(111)衬底上形成了 GaN 薄膜,研究了溅射压强、衬底温度等对GaN薄膜结构和成分的影响。发现沉积气压为0.4~1.0 Pa 时,薄膜呈GaN(002)取向,气压大于1.0 Pa 和小于0.4 Pa 时,用 X 射线衍射方法难以观察到GaN(002)的衍射峰。X射线能谱分析表明在最佳实验 m4W (h6  
    条件下制备的GaN薄膜的元素比Ga:N为1:1。 #t1? *4.p  
    SJ22  
    关键词:中频磁控溅射;GaN;X射线衍射;沉积速率
    附件: 中频磁控溅射制备GaN薄膜.rar (1059 K) 下载次数:3 ,售价:2光币[记录]
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    cyqdesign 光币 +5 - 2011-12-18
     
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