工件台转速对非平衡磁控溅射沉积MoS2- Ti复合薄膜的结构与性能影响摘要：采用非平衡磁控溅射沉积技术制备 MoS 2 2 Ti复合薄膜 , 研究了工件台转速对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF和 XRD分析薄膜的成分和晶相结构 , 用 CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力 , 用球 2 盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明: 提高工件台转速改善了掺杂金属 Ti在薄膜中的分布均匀性 , 起到了细化晶粒尺寸 , 使薄膜组织结构致密性加强的效果。工件台转速变化不影响薄膜成分 , 薄膜的晶相从明显的 (002) 基面优势取向向准晶态转变; 薄膜的硬度、与基底间的附着力都随工件台转速的提高而增大; 薄膜在真空环境中的减摩作用与工件台转速无关 , 摩擦因数平均值为 0102, 波动范围为 0101～0104, 薄膜耐磨寿命随工件台转速提高而延长。 eyUguA<lK\
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关键词：非平衡磁控溅射；MoS 2 2 Ti复合薄膜；工件台转速；结构和性能
