据说，最初发现真空中成膜是由1850年灯泡蒸发现象产生引起。当然，那并不是以薄膜制作为目的的，而仅仅是因为真空管阴极蒸发，管壁污染生成物的发现。之后，在放电管研究开发方面，将如何减少蒸发现象作为课题来研讨了。 v@;!fBUt
灯泡发明之后不久，1857年，M.法拉弟开始了真空镀膜的尝试。因为这是有意图性的进行薄膜制成，故这就是所谓最早的真空镀膜。但是，如此的方法在实际使用上非常花时间，那是因为当时的真空技术非常低。随后，1930年ブし－クスル－产生了，以使用油作为动作液体的扩散泵的完成为开端，实现了真空技术的迅猛发展。其结果是：真空镀膜一下子成了实用技术。刚开始是实现了将到那时为止的防反射的透过镜的化学手法的制作向真空镀膜制作的转变。由此，光学薄膜得到了很大的发展。特别是在第二次世界大战中，潜水艇上用的潜望镜等复杂性光学系统方面，防反射膜的优势直接影响着战争的结果，不容有缺点。 W6L}T,epX
实际，防反射膜有多大功效：所说的潜望镜是由15～25个透镜和三棱镜组成。为此，跟空气接触，反射的面就有30～50个面左右。假定设为40个面，各自使用的都是屈折率为1.52左右的玻璃的话，因为空气与玻璃的屈折率差异因素，通过一个面反射降到96％，即通过40个面后，反射只剩下19.5％了。况且，在各个面上被反射回来的光变成迷光，会导致幻像以及扩张现象的发生。由此降低成像的对比度。故在各个面镀上单层防反射膜之后，一个面上的透过率为98.7％左右。通过40个面之后，光量为59％，比先前亮了3倍多。若是利用上当时还未被实际采用上去的多层防反射膜的话，1个面的透过率为99.8％，40个面通过后，光量则为92％。战后，在我国，从照相机等光学产业盛行开始，使用真空镀膜的防反射膜的研究非常旺盛。特别是于1964年召开的东京奥林匹克上使用的电视彩色转播，成了一大转折点。为了让使用复杂的透镜构成的监控电视实现透过率提高以及自然色再现，通过可以说无视于预算程度的设备投资，实现了电子铳蒸发源的实用化，不知不觉中完成了多层防止反射膜。 ^laf!kIP
真空镀膜在电气、装饰领域也被运用着，被作为新兴技术的代表，进行着各种应用研究开发，为此，随着真空技术的进步，进而产生了在超高真空中的分子线镀膜，以及与等离子相融合的技术离子镀膜手法。另一方面：有关喷射环的放电管阴极长期喷射，管壁变脏事宜，曾一度设法要做防止此现象发生的研究先驱。主要是在美国进行研究的，将它作为实用技术，广泛运用是在1960年以后的事，那之后，研究仍在激烈进展，以至于到了现在已成为极为重要的薄膜制成技术。且说，一直到现在所讲的方法都是将形成膜的镀膜物质加热蒸发，或是通过气体离子的动能蒸发镀膜的物理手法，故称之为物理镀膜法（PH）。另外，在此基础上，于原料内合作化合物气体，使之在反应容器内进行化学反应，此薄膜制作法被称之为化学镀膜法（CVD）。据说，知晓CVD原理是在1930年时期，将它实际运用上的是1950年时期后半队段，德国制作了耐磨消耗材的炭化钛膜。到了1960年，它也成了半导体发展史上所被利用的得力薄膜制作方法。化学反应在初期主要是在大气压利用热能进行的，但需要的基板温度是1500℃左右，用途有限。后来开发研究出在减压下进行的方法，将处理加工温度降到860℃左右。化学镀膜法与真空的关系初期是为了预先使导入原料气体的容器排成真空，除去不要的气体也被利用了。减压化学CVD可以说两者的关系更加密切。那以后，又开发出了镀膜待离子化学镀膜法，镀膜温度被降为300℃左右，且根据膜种不同有些即使不加热也可以制作了。最近，利用放电管以及激光等的光源来促进化学反应的方法也在使用。
