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请教:离子辅助蒸发带来的问题。
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请教:离子辅助蒸发带来的问题。
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发表于: 2005-12-08
最近镀YAG晶体,采用的是离子辅助蒸发的方法,牢固度,光学特性都很好,但是发现表面又很多点。不用离子源就会好狠多,不是何原因?我用的时考夫曼源,能量在200V以下,应该不算高。请各位大虾指教。
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birdy
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发表于: 2005-12-09
有可能是真空室不够干净,有浮尘。
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2楼
发表于: 2005-12-09
请教一楼,离子源能把浮尘打下来吗?我问过空间中心的人,他们说不可能。我也搞不清咋回事了。
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livego
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3楼
发表于: 2005-12-09
这个应该就是工艺问题了,以前记得在哪里也见到过这个问题,后来不知道他们怎么解决的,洁净度、真空度、返油、烘烤温度等都有可能。
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birdy
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4楼
发表于: 2005-12-10
不好意思,我自己也没有用过离子源,只是听人家说过有这种情况
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birdy
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5楼
发表于: 2005-12-10
哈哈,你可以咨询一下3楼的啦
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洪亮
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6楼
发表于: 2005-12-12
真空室洁净度不高造成
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imute
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7楼
发表于: 2005-12-13
请教六楼,你们如何清洗真空室呢?我们一般用砂纸打磨后,再用布和酒精擦拭,看来这样是不是不行呀?!
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flyinlove79
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8楼
发表于: 2005-12-21
我们直接把护皮取下来,在水里用砂纸打磨,别的地方就直接用砂纸打磨,再用布和酒精擦拭啦
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9楼
发表于: 2005-12-22
我们基本上也是这么做的,不过有些地方实在是不好清洗,我们用的是南光的镀膜机。请问8楼的版主在那里高就,是南方还是北方?
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