切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    12
    • 7673阅读
    • 12回复

    [讨论]磁控濺射中，磁場該如何做最好的配置 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线sorry6741
    实习生
     
    发帖
    15
    光币
    40
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2007-05-27
    磁控濺射中，磁場該如何做最好的配置，因為我廠的靶材使用時，靶材利用率很差，靠近裡面打的厚、外圍就打的薄，請問到底磁鐵在配置時該如何做最佳配置，是否要研究磁力線分佈
     
    回复
    举报
    分享到
    离线荷塘月色
    实习生
    发帖
    8
    光币
    17
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2007-07-02
    此情况是属在非平衡磁场的基础上严重磁力分布不均。而且溅射靶材不宜过厚。
    回复
    举报
    离线msgt
    实习生
    发帖
    10
    光币
    9
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2007-07-11
    不是很明白
    回复
    举报
    离线sorry6741
    实习生
    发帖
    15
    光币
    40
    光券
    0
    只看该作者 3楼 发表于: 2007-07-11
    溅射靶材為何不宜过厚啊
    回复
    举报
    离线韩成锡
    实习生
    发帖
    4
    光币
    9
    光券
    0
    只看该作者 4楼 发表于: 2007-07-12
    非平衡磁控溅射的磁场本身就是不对称分布，不管如何调整总会有一个有效溅射面积问题。由于磁场磁力线的分布，受到轰击最充分的位置是在距离中心和边缘均有一定距离的环形面上；把磁力线调整到能够覆盖靶面更大范围可以提高一些靶材利用率，但效果有限。 KAgxIz!^-1  
    L7[f-cK2:  
    靶材厚度不宜做的太厚。因为磁场分布的原因，溅射一段时间后靶面会形成一个环形凹槽，靶做的越厚利用率就越低（除去环形部分被溅射掉，中心部分和边缘部分剩下的越多，浪费越严重）
    回复
    举报
    离线fineday36
    实习生
    发帖
    68
    光币
    1
    光券
    0
    只看该作者 5楼 发表于: 2009-05-06
    我也遇到此类问题,调整磁铁相对于靶面的距离,来调整磁力线,可以改良这种情况
    回复
    举报
    离线liulianrui
    实习生
    发帖
    9
    光币
    9
    光券
    0
    只看该作者 6楼 发表于: 2009-06-02
    最好用专业的软件来设计磁场分布，以确定磁钢的大小、强度、位置和靶材的尺寸。我公司专业制造磁控溅射靶，材料利用率高，溅射稳定。有问题可以直接联系我，我们相互切磋dzmr.liu@126.com
    回复
    举报
    离线bislarge
    实习生
    发帖
    21
    光币
    10
    光券
    0
    只看该作者 7楼 发表于: 2009-06-03
    我也知道怎么解决这个问题
    回复
    举报
    离线bislarge
    实习生
    发帖
    21
    光币
    10
    光券
    0
    只看该作者 8楼 发表于: 2009-06-03
    可联系，，czbvacuum@163.com
    回复
    举报
    离线玻璃人
    实习生
    发帖
    68
    光币
    0
    光券
    0
    只看该作者 9楼 发表于: 2009-09-08
    学习了！！！
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表
    12