1.模拟任务 q[r|p"TGov
NoV2<m$ 本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 S&9{kt|BI 设计包括两个步骤: 9Y~A2C - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 N[czraFBD} - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 8JGt|, 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ;/$zBr`' P#6y TR]~r2z 照明光束参数 +oeO0
S.BM/M
\DpXs[1
波长:632.8nm ']>@vo4kK{
激光光束直径(1/e2):700um wR1M_&-s ?%F*{3IP 理想输出场参数 1)vdM(y3j
kpcIU7|e
Rm{S,
直径:1° N^B
YNqr
分辨率:≤0.03° Uk5jZ|
效率:>70% UV$v:>K#
杂散光:<20% $#1i@dI
h0L*8P`t [P407Sa" 2.设计相位函数 ZEp UHdin _da>=^hFJ tGe|@.!
IZoa7S&t
相位的设计请参考会话编辑器 O:WFh;c
Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 t=Tu-2,k
设计没有离散相位级的phase-only传输。 pS;jrq
I#
z`]'~ 3.计算GRIN扩散器 1
@tVfn} GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 \|R P-8 最大折射率调制为△n=+0.05。 4#!NVI3t 最大层厚度如下: 1@im+R?a aovRm|aOo' 4.计算折射率调制 1^TOTY e}D#vPaSY 从IFTA优化文档中显示优化的传输 ]z;%%'gW6 I#tn/\n 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 TeSF
);'8*e' MPhO#;v 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 y4^6I$M7V qQv?J]l ayTEQS
乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 9K-=2hvv
@.6l^"L B0T[[%~3M 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 [/.o>R#J( -Xb]=Yf- 89?$xm _m
u|z B\zd
数据阵列可用于存储折射率调制。 p(fYpD
选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 Y<0
[_+(
插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 RBd{1on
#p_3j 0S
5.X/Y采样介质 -Zh`h8gX ,Y6Me+5B pn<M`,F~q GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 }J$Q 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 A
M8bem~ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。 dcew`$SJp 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。 ?aR)dQ %{Ez0XwGCn Q&S\?cKe
dOh`F~
Y)e
基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Y5M>&}N
折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 481J=8H
应该选择像素化折射率调制。 t&MJSFkiA
|}P4Gr}6
`uo'w:Q
优化的GRIN介质是周期性结构。 Lwm2:_\_b
只优化和指定一个单周期。 ?]+{2&&$
介质必须切换到周期模式。周期是 H48`z'o
1.20764μm×1.20764μm。 LT']3w {PZNJ 2~ 6.通过GRIN介质传播 t=J WD2 eAR]~
NiW H}5zKv.T
U2l7@uDr;
通过折射率调制层传播的传播模型: AC:cV='
- 薄元近似 m08:EXP
- 分步光束传播方法。 JFf*v6:,
对于这个案例,薄元近似足够准确。 ;dgxeP;mp
在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 c~bi
~ f
场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 sJu^deX
/V}>v 7.模拟结果 ^o^[p % OCIWQ/
P 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
Gu?OyL
8.结论 QwPLy O
#-?C{$2I VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 n<\
WVi 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 RQiGKz5
可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 PEqO<a1Z8