UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 DrEtnt (2023-03-16 09:05) O5{XT]:
UID:321637
UID:295883
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) ,q@(L
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 Dmm r]~ 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 CVGOX z PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) 93^(O8.