UID:323712
jzdxzw:第一层不用二氧化硅试试呢 \('WS[$2 (2023-03-16 09:05) vW0U~(XlN
UID:321637
UID:295883
xzaxd:你用的是什么设备? (2023-03-17 15:57) V_9>Z?
ouyuu:镀膜前延长离子源清洗的时间,增加离子源清洗的能量 _Y,d|!B#L 使用卤素灯烘烤加热到80度左右 wB W]w PC第一层用氧化铝 (2023-03-18 23:35) yO09NQ 5u