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gO4J[_ 内容简介 M$%aX,nk' Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5D-xm$8C 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 b\][ x6zJp 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 7SXi#{ w^p
'D{{ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 o&;+!Si@T 目录 emw3cQ Preface 1 =NF},j" 内容简介 2 6O$OM 目录 i }N2T/U 1 引言 1 mmTc.xh 2 光学薄膜基础 2 Puily9# 2.1 一般规则 2 e@Z(z^V 2.2 正交入射规则 3 ;TMH.E,h: 2.3 斜入射规则 6 %nF6n:| : 2.4 精确计算 7 /qo. Z 2.5 相干性 8 .4_EaQ;jX 2.6 参考文献 10 6g@j,iFy 3 Essential Macleod的快速预览 10 &{x5 |$SD 4 Essential Macleod的特点 32 ',kYZay 4.1 容量和局限性 33 V{{b^y 4.2 程序在哪里? 33 vsqfvx 4.3 数据文件 35 GZXUB0W\@) 4.4 设计规则 35 A37Z;/H~k 4.5 材料数据库和资料库 37 B:qZh$YN 4.5.1材料损失 38 + To{Tm- 4.5.1材料数据库和导入材料 39 kIrME: 4.5.2 材料库 41 m,Q<4' 4.5.3导出材料数据 43 R7ZxS 4.6 常用单位 43 t \DS}3pv 4.7 插值和外推法 46 2Ev~[Hb. 4.8 材料数据的平滑 50 :~zK0v" 4.9 更多光学常数模型 54 *1ku2e]z 4.10 文档的一般编辑规则 55 *vCJTz 4.11 撤销和重做 56 f@[q# }6 4.12 设计文档 57 }j+ZF'# 4.10.1 公式 58 2[r#y1ro 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Ls5|4%+& 4.10.3 沉积密度 59 4FGcCE3 4.10.4 平行和楔形介质 60 MHI0>QsI 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 yGZb 4.10.4 性能 61 y*vs}G'W 4.10.5 保存设计和性能 64 iKLN !QR 4.10.6 默认设计 64 P3on4c 4.11 图表 64 eMPi ho 4.11.1 合并曲线图 67 $MfHA~^ 4.11.2 自适应绘制 68 jGb+bN5U7 4.11.3 动态绘图 68 K> lA6i7? 4.11.4 3D绘图 69 c[3sg 4.12 导入和导出 73 ,Tvk&<!0 4.12.1 剪贴板 73 J6n@|L!yO 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ,l&Dt, 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 qg'RD]a> R 4.13 背景 77 jC@$D*"J 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 p#qQGJe 4.15 生成Rugate 84 9y>dDNM\< 4.16 参考文献 91 DNLqipUw 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 |@sUN:G4k 5.1 Jobs 92 x`WP*a7Fk] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }_@*, 5.3 输入材料 94 `rbTB3? 5.4 设计数据文件夹 95
J5*krH2i 5.5 默认设计 95 Eu l,1yR 6 细化和合成 97 :JV=Kt 6.1 优化介绍 97 V~+Oil6sa 6.2 细化 (Refinement) 98 O:{I9V-=>s 6.3 合成 (Synthesis) 100 ht(RX 6.4 目标和评价函数 101 g"`BNI]Qp 6.4.1 目标输入 102 W[AX? 6.4.2 目标 103 aiF7\^aw$ 6.4.3 特殊的评价函数 104 =A$5~op% 6.5 层锁定和连接 104 Xg^`fRg =T 6.6 细化技术 104 ;
"ux{ . 6.6.1 单纯形 105 P5P:_hr 6.6.1.1 单纯形参数 106 K;k_MA310 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \5_+6 6.6.2.1 Optimac参数 108 #@w8wCj 6.6.3 模拟退火算法 109 z4HIDb 6.6.3.1 模拟退火参数 109 "|{NRIE 6.6.4 共轭梯度 111 FWq+'GkSV 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /a[i:Oa# 6.6.5 拟牛顿法 112 _<6
^r 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 4&r[`gL 6.6.6 针合成 113 :"5i/Cx 6.6.6.1 针合成参数 114 ^vn8s~# 6.6.7 差分进化 114 =kp#v 6.6.8非局部细化 115 cV\(Z6u 6.6.8.1非局部细化参数 115 ZgP=maQk 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Q})x4 6.7.1 细化 116 ({v$!AAv 6.7.2 合成 117 Oz'x5/%G 6.8 参考文献 117 64%P}On 7 导纳图及其他工具 118 Ew5(U`] 7.1 简介 118 oM G8?p 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Iojyku\W. 7.2.1 四分之一波长规则 119 t3|If@T 7.2.2 导纳图 120 v8Vw.Ce`f 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !_ZknZTT 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 z#ab
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Xi 7.5 斜入射导纳图 141 wzVx16Rvc 7.6 对称周期 141 0x7F~%%2 7.7 参考文献 142 n+QUT 8 典型的镀膜实例 143 )e(Rf!P{ 8.1 单层抗反射薄膜 145 PIR#M(' 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @<=x fs 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 &_Z |