随着前期开展的
ASAP 杂散光课程顺利举办,武汉墨光迎来了本次第六期线上杂散光精品课,资深
光学工程师精心打造,配套教材,线上答疑,实用案例,一一给您讲到位,让您学有所获。以下就是本次
培训大纲及详情:
A//?6OJx? q?{}3 dPC 培训大纲
( `' 8Ww 01. 杂散光术语
V%L/8Q~ 02. 辐射度学基础
#~Q=h`9 03. 杂散光成因
X'sEE 04. 杂散光影响、杂散光控制
d{+(Lpj^ 05. 杂散光分析、评价方法、分析
软件对比
oT+(W,G 06. ASAP 杂散光分析流程、步骤
S4vbN 07. 散光特性、散射
模型 F%.xuL W 08. 消光漆/表面处理
mL L$| 09. 光学表面污染
@Z(rgF{{ 10. 散射特性测量仪对比、重点区域采样
[5ethM
11.
衍射杂散光、PST 分析
X33v:9= 12. 鬼像分析、
光学设计中的杂散光控制
a_T,t'6 13. 遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析
:Z`4j 14. 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析
oN2=DYC41 15. 散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱
tiQ;#p7% *$,+`+ 培训说明
nnCug 本培训为线上直播培训
v#w _eqg 培训内容作业练习跟踪,老师答疑
Rq)BssdF 培训结束后支持录播回放观看
cf8-]G?tK s3t!<9[m 1. 培训方安装最新正版软件(仅限培训期间使用)。
n[k1np$7?6 2. 包邮赠送配套教材一本《杂散光抑制设计与分析》一本。
`7Ug/R< 3. 为保证课程质量,课程均采用小班授课模式。
)^; DGzG 举办单位:武汉墨光科技有限公司
D5A=,\uk 培训日期:2021年11月1日——11月6日
CMVS W6 下午:14:00-17:00 (18课时,3课时/天)
\ElX~$fS Dx+K+( 3;/?q 复制链接查看培训详情:
https://mp.weixin.qq.com/s/v_BSsVmYzXgOINgiXIgCUg